核心參數(shù)

1. 測量原理：LED 光源 + 光電二極管陣列 PDA 檢測流體折射率，內(nèi)置溫度補(bǔ)償算法

2. 折射率量程：1.32~1.40 nD，純水測量精度 ±3×10?? nD（20℃）

3. 流體耐受溫度：12~42℃，設(shè)備運(yùn)行環(huán)境 0~50℃

4. 電氣規(guī)格：DC24V 供電，啟動電流 1.0A，運(yùn)行 0.5A；4 路狀態(tài) LED 指示燈

5. 信號輸出：4~20mA 模擬輸出（濃度 / 溫度 / 折射率三選一）、2 線 / 4 線 RS485 數(shù)字通訊

6. 濕部材質(zhì)：流通池 PFA、光學(xué)窗口單晶藍(lán)寶石、管路接口高純卡套式

7. 壓力耐受：最大 60psi @40℃，適配半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)管路壓力區(qū)間

8. 配套軟件：InVue GV148 HMI，支持實(shí)時曲線、批量數(shù)據(jù)導(dǎo)出、多點(diǎn)濃度標(biāo)定

美國Entegris 在線折光式液體濃度監(jiān)測儀

適用場景

1. 晶圓 CMP 化學(xué)機(jī)械研磨產(chǎn)線

   實(shí)時監(jiān)測研磨漿料濃度，漿料長時間循環(huán)稀釋劣化時觸發(fā)報警聯(lián)鎖停機(jī)，匹配日本先進(jìn)制程晶圓廠 CMP 管控標(biāo)準(zhǔn)，大幅降低晶圓缺陷報廢率。

2. 半導(dǎo)體雙氧水、清洗藥液輸送管路

   非導(dǎo)電高純雙氧水在線持續(xù)監(jiān)測，管控藥液添加配比，兼容德國微電子清洗化學(xué)輸送成套系統(tǒng)。

3. 化學(xué)品自動混合、稀釋配液單元

   前置在線濃度預(yù)校驗(yàn)，保障混合后藥液濃度穩(wěn)定，減少人工取樣離線檢測頻次。

4. SubFab 全廠化學(xué)循環(huán)管路多點(diǎn)監(jiān)測

   多臺 GV148 串聯(lián)布置，全域監(jiān)控藥液濃度變化，數(shù)據(jù)匯總至中控 PLC 集中歸檔。

5. 批次式蝕刻、清洗工藝設(shè)備藥液槽壽命預(yù)警

   實(shí)時判斷藥液有效成分衰減，精準(zhǔn)提示藥液更換節(jié)點(diǎn)，節(jié)約高純化學(xué)品耗材。

6. 高校微電子、半導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)室化學(xué)循環(huán)平臺

   小型高純流體回路濃度長期記錄，標(biāo)準(zhǔn)化信號輸出適配進(jìn)口實(shí)驗(yàn)自動化采集設(shè)備。

7. 第三代半導(dǎo)體、光伏硅片研磨工序配套

   硅片拋光漿料濃度穩(wěn)定管控，適配美國光伏晶圓制造化學(xué)工藝規(guī)范。

使用優(yōu)勢

1. 光學(xué)非侵入式測量，不污染高純半導(dǎo)體藥液

   無電極接觸流體，不存在金屬溶出污染晶圓制程，對比電導(dǎo)式濃度計(jì)適配雙氧水、絕緣研磨漿料等非導(dǎo)電介質(zhì)。

2. 藍(lán)寶石視窗專用清潔口，維護(hù)便捷無需拆機(jī)

   機(jī)身預(yù)留獨(dú)立清潔通道，直接擦拭窗口結(jié)晶、漿料沉淀，整機(jī)不用從管路拆除，縮短產(chǎn)線停機(jī)維護(hù)時間。

3. 一體化集成電路，安裝占地極小

   驅(qū)動、信號轉(zhuǎn)換、測溫模塊全部整合單機(jī)，可密集排布在狹小化學(xué)模組柜內(nèi)，老舊產(chǎn)線改造無需擴(kuò)容設(shè)備空間。

4. 溫度自動補(bǔ)償，工況波動測量穩(wěn)定

   同步采集流體溫度實(shí)時修正折射率計(jì)算值，管路冷熱交替、車間溫度變化不會造成濃度數(shù)值漂移。

5. 雙路信號輸出，兼容全球半導(dǎo)體制控設(shè)備

   4-20mA 工業(yè)模擬 + RS485 數(shù)字通訊，中日德美各類半導(dǎo)體 PLC、數(shù)據(jù)采集器、上位機(jī)系統(tǒng)可直接對接配套。

6. 全氟超高純濕部，適配強(qiáng)腐蝕研磨、清洗藥液

   PFA + 藍(lán)寶石耐受酸性、堿性、研磨漿料混合介質(zhì)，無吸附殘留，保障化學(xué)品潔凈度符合先進(jìn)制程要求。

7. 閾值報警 + 設(shè)備聯(lián)鎖，規(guī)避批量晶圓報廢

   可自定義濃度上下限，超標(biāo)后 LED 報警并輸出開關(guān)信號聯(lián)動研磨設(shè)備停機(jī)，提前阻斷不良品產(chǎn)出。

8. 配套專業(yè)上位機(jī)軟件，工藝數(shù)據(jù)完整溯源

   實(shí)時繪制濃度、溫度曲線，自動存儲批量檢測記錄，滿足半導(dǎo)體工廠品質(zhì)追溯歸檔規(guī)范。