引言
在半導(dǎo)體、光學(xué)元器件、高分子材料加工領(lǐng)域,工件表面納米級有機(jī)殘留、基材表面潤濕性不足,會(huì)直接造成粘接失效、鍍膜脫落、封裝良率下降。傳統(tǒng)濕法清洗會(huì)帶來溶劑殘留、廢液處理、基材溶脹等問題,UV 臭氧干式表面處理工藝逐步成為樣品前處理的主流方案。本文針對 SEN 日森 SSP16?110 桌上型光表面處理裝置,從工作原理、設(shè)備特性、工藝要點(diǎn)、應(yīng)用場景展開技術(shù)解析。
SEN 日森 SSP16?110 屬于大氣式 UV 臭氧表面處理機(jī)型,依靠 185nm、254nm 雙波長紫外光源,實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物分解去除與基材表面分子級改性,全程干式工藝,無需化學(xué)藥劑,兼顧實(shí)驗(yàn)室研發(fā)與小批量試產(chǎn)工況。
設(shè)備原理簡述
185nm 紫外光照射空氣生成臭氧,同時(shí) 185nm、254nm 高能紫外光子直接轟擊工件表面。一方面切斷碳?xì)漕愑袡C(jī)污染物分子鍵,臭氧進(jìn)一步氧化分解有機(jī)物,生成二氧化碳、水揮發(fā)脫離基材表面,實(shí)現(xiàn)納米級有機(jī)污漬清除;另一方面在高分子、玻璃表面引入羥基等極性官能團(tuán),提升表面潤濕性,改善粘接、涂覆附著力。整套處理在大氣常壓環(huán)境完成,不需要真空腔體,工藝門檻較低。
產(chǎn)品名稱:SEN / 日森桌上型 UV 光表面處理裝置
型號:SSP16?110
產(chǎn)品特點(diǎn) / 使用特點(diǎn)關(guān)鍵詞:185/254nm 雙波長紫外、大氣式 UV 臭氧工藝、160×160mm 照射面、照射距離 0?75mm 可調(diào)、抽拉式樣品臺、外置鼓風(fēng)機(jī)、臭氧風(fēng)量調(diào)節(jié)、適配立體工件、研發(fā)及小批量生產(chǎn)兩用
產(chǎn)品簡潔介紹:該款為 SEN 日森 SSP16?110 臺式 UV 光表面處理裝置,采用雙波長紫外光源,大氣臭氧式干式處理,照射面積 160×160mm,照射距離 0?75mm 可調(diào),抽拉式樣品臺便于工件取放,可處理一定高度的立體工件。配置獨(dú)立鼓風(fēng)機(jī)與臭氧風(fēng)量調(diào)節(jié)閥,可調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部臭氧濃度,無需真空環(huán)境,多用于晶圓、光學(xué)玻璃、高分子薄膜的表面清洗、表面改質(zhì)、粘接前預(yù)處理。
產(chǎn)品詳情介紹:
整機(jī)為臺式箱體結(jié)構(gòu),配套獨(dú)立電源單元、鼓風(fēng)機(jī)組件,照射窗口尺寸 160×160mm,樣品臺抽拉式結(jié)構(gòu),工件放置完成后推入腔體內(nèi)部;光源與樣品臺間距可在 0?75mm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié),可適配薄片、小型立體零部件。設(shè)備配備風(fēng)量調(diào)節(jié)閥,能夠控制臭氧排出流量,調(diào)節(jié)腔體內(nèi)臭氧濃度,外接排風(fēng)管路可將臭氧排出作業(yè)區(qū)域。紫外燈管屬于消耗部件,后期可單獨(dú)更換。設(shè)備處理過程無需藥液,全程干式,不產(chǎn)生廢液。
紫外輸出照度 15mW/cm2,工作電源 AC100V,整機(jī)功耗 140W。照射距離直接影響處理效率,距離越近,處理所需時(shí)間越短。設(shè)備為大氣環(huán)境使用機(jī)型,不需要抽真空,開機(jī)后燈管需要短暫預(yù)熱,再開展工件處理。不適合處理易被臭氧強(qiáng)氧化破壞的基材;工件表面不能存在大量液態(tài)水、大顆粒雜質(zhì),處理前工件需要完成基礎(chǔ)除塵。
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體小尺寸晶圓預(yù)處理、光學(xué)鏡片光清洗、高分子塑膠件粘接前改質(zhì)、薄膜基材提升涂覆附著力、電鍍前預(yù)處理、光刻膠灰化、科研實(shí)驗(yàn)樣品表面改性。該機(jī)型面向小尺寸工件,不適合大面積卷材連續(xù)量產(chǎn)。
工藝實(shí)操注意要點(diǎn):工件盡量擺放于照射面中心,保證照射均勻;根據(jù)基材類型、污染程度設(shè)置照射時(shí)間,過度照射會(huì)造成部分高分子基材老化脆化;作業(yè)現(xiàn)場必須做好臭氧排風(fēng);燈管存在使用壽命,需要定期核查紫外照度;樣品表面大顆粒粉塵需要提前清除,以此保障處理效果與整機(jī)使用壽命。