關(guān)于庫侖計

電子設(shè)備(如 LSI)的 ESD(靜電放電)失效模型大致可分為以下三種類型。
HBM(人體靜電模型):因人體靜電放電而受損。
MM(機器型號):因機器機架等處的靜電放電而損壞。
CDM(設(shè)備充電模型):設(shè)備本身因靜電放電到地線等原因而帶電并損壞。
其中,熱基微電磁(HBM)的防護措施包括靜電地板、靜電鞋和防靜電腕帶;而金屬微電磁(MM)的防護措施則包括對生產(chǎn)設(shè)備和工作區(qū)域周圍的金屬物體進行接地。目前,靜電放電(ESD)損傷的主要模型被認(rèn)為是電荷驅(qū)動放電(CDM)。對于大規(guī)模集成電路(LSI)而言,CDM 是指內(nèi)部導(dǎo)體帶電后,由于封裝表面帶電、周圍環(huán)境帶電以及引腳直接帶電等原因,與地接觸時,內(nèi)部導(dǎo)體的電荷會以高速、高峰值電流流出。雖然可以通過使用表面電位計測量電子器件表面的電荷電位來預(yù)防 CDM 引起的 ESD 損傷,但由于電子器件靜電電阻的降低和封裝尺寸的小型化,這種方法變得越來越困難。庫侖計可以直接測量流經(jīng)內(nèi)部導(dǎo)體(例如引線和電路板)的放電電荷,從而立即判斷電子設(shè)備是否會損壞。這種測量方法非常適合CDM模型。它還可以用于生產(chǎn)過程中金屬物體的接地檢查。

以下是針對不同制造場所的靜電放電控制電壓和擊穿電荷的指導(dǎo)原則示例
半導(dǎo)體器件制造工藝(CMOS IC):
設(shè)計規(guī)則 0.18μm:50V 或更低(破壞電荷:0.5-2.0nC)
設(shè)計規(guī)則 0.25μm:50V(破壞電荷:0.8-3nC)
設(shè)計規(guī)則 0.35μm:50V(破壞電荷:1-4nC)
數(shù)碼相機組裝工藝(CCD):
50-100V(破壞性電荷:2-4nC)
光學(xué)拾取器制造工藝:
30-50V(破壞性電荷:1nC)
光盤驅(qū)動器組裝過程:
50-150V(破壞電荷:1nC)
硬盤組裝過程:
磁阻磁頭:10V(破壞性電荷:0.2nC)
巨磁阻磁頭:5V(破壞性電荷:0.2nC或更低)
LCD制造工藝:
50-100V(Cell工藝:1000-1500V)
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