1. 樣品的制備用于透射電子顯微鏡

部分樣品需要適當的樣品準備。

厚樣品 用通用透射電子顯微鏡觀察
的樣品應稀釋至約100納米厚度。
1. 分散法
樣品被分散在溶劑中，分散液滴落到觀察基底上。
2. 切片法 該方法使用
金剛石刀將樣品稀釋至約100納米。軟樣品如聚合物用液氮冷卻后切割。
3. 氬研磨法：通過
機械加工將厚度為數微米的樣品進行薄化，通過照射氬離子切斷樣品中的鍵來稀釋
。4. FIB方法
：在使用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察時，用FIB稀釋目標區域。即使是厚度約5微米的樣品，也可以用加速電壓達到1000 kV或更高的超高壓電子顯微鏡（HVEM）觀察到，但由于設備體積龐大且結構復雜，主要由大學和其他研究機構擁有。+

不含重元素
、高分子和生物樣品的樣品主要由C、H、N和O等輕元素組成，因此電子磁導率較高，可能缺乏足夠的對比度以識別結構。你想觀察結構的部分是具有高電子散射能力（OsO4和RuO4等等）。電子染色可以改變樣品的結構，為了避免這種影響，通過穿透式電子顯微鏡或掃描透射電子顯微鏡（STEM）通過相位差獲得對比效果有效。

在高真空條件下蒸發或升華的樣品蒸發和高真空條件下的升華
不僅可能改變樣品的結構和形狀，還可能導致設備故障。為防止這種情況，必須使用環境控制透射電子顯微鏡（ETEM）或低溫電子顯微鏡。

2. 透射電子顯微鏡中的主要分析儀

由于加速電子束可以照射樣品以獲得除電子以外的多種信號，透射電子顯微鏡可能配備各種分析設備。

電子束繞射通過檢測
彈性散射電子束的干涉，可以獲得樣品的衍射圖像。對衍射圖像的分析揭示了晶體學信息，如晶體結構和取向。

電子能量損失光譜（EELS）
非彈性散射電子束是指在入射電子束激發樣品中的電子后，樣品發射出的電子束。測量電子束相較于入射前損失的能量，可以提供樣品的組成和鍵合態等信息。

電子束斷層掃描通過將CT（計算斷層掃描）原理應用于
透射電子，可以生成三維立體圖像，疊加層層掃描圖像。

此外，還可以添加各種分析功能。與使用獨立測量設備進行的測量相比，測量位置可以在觀察透射電子顯微鏡圖像時選擇，從而實現更詳細的測量。