日本大塚電子 OTSUKA | 分光精密測量，賦能納米智造全流程分享

來源：高斯摩(成都)國際貿易有限公司 2026年07月06日 16:50

深耕光學分光檢測四十余年，日本大塚電子以自研 MCPD 多通道光譜核心技術，打造無損、高速、

高精度薄膜與材料光學檢測全系列設備。

依托光譜干涉多層膜解析、3μm 微區顯微光學、高速并行光譜采集三大技術，實現從 3nm 超薄膜到 92μm

厚涂層全覆蓋測量，同步輸出膜厚、折射率 n、消光系數 k 核心光學參數。

全系設備非接觸無損傷，毫秒級高速采樣，既可滿足半導體、第三代半導體、OLED 實驗室微區精密標定，

也可直接集成卷對卷涂布、鋰電極片、晶圓產線做在線實時監控；配套 Zeta 電位、三維光學缺陷檢測設備，

打通原料粉體 — 功能薄膜 — 成品光學性能全鏈條表征。

遵循日本 JIS 工業計量標準，搭載光纖模塊化光路，支持自動化產線定制對接、遠程數據追溯，

兼顧研發高精度與量產高效率，是全球薄膜、半導體、顯示、新能源行業的光學測量基準方案提供商。

? 自研 MCPD 多通道分光核心，5μs 極速光譜掃描，雜散光抑制行業

? 分光干涉算法，單次解析 50 層薄膜，同步輸出 n/k 光學常數

? OPTM 顯微膜厚儀：3μm 微區光斑，1 秒完成對焦 + 測量，媲美橢偏儀

? FE-300 在線膜厚監測儀，適配光學膜、鋰電涂布全線寬實時監控

? 全系列無損非接觸測量，不損傷晶圓、光學膜等高價值樣品

? 覆蓋半導體 SiC/GaN、OLED、光學薄膜、新能源鋰電全賽道

從實驗室研發到量產在線監控，一站式納米薄膜光學測量解決方案，

日本原廠精密光學技術，穩定高重現，支持產線嵌入式定制集成。

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