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內容聲明：
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產品簡介
上海伯東代理霍爾離子源 eH 3000產品參數
| 供貨周期 | 一個月以上 |
上海伯東代理霍爾離子源 eH 3000詳細信息
因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國* KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷卻
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
• 高效的等離子轉換和穩定的功率控制
KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數
型號 | eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE |
供電 | DC magnetic confinement |
- 電壓 | 50-250V VDC |
- 離子源直徑 | ~ 7 cm |
- 陽極結構 | 模塊化 |
電源控制 | eHx-25020A |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
- 離子束發散角度 | > 45° (hwhm) |
- 陽極 | 標準或 Grooved |
- 水冷 | 前板水冷 |
- 底座 | 移動或快接法蘭 |
- 高度 | 4.0' |
- 直徑 | 5.7' |
- 加工材料 | 金屬 |
- 工藝氣體 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安裝距離 | 16-45” |
- 自動控制 | 控制4種氣體 |
* 可選: 可調角度的支架;
KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD
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