FPD光刻設(shè)備科研(DNK)垂直近距離曝光機(jī)

DNK曝光機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)核心是靈活的光學(xué)系統(tǒng)、穩(wěn)定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)研究。DNK的曝光機(jī)主要用于科研和小批量生產(chǎn)，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實(shí)驗(yàn)和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學(xué)系統(tǒng)可以靈活組合鏡片和透鏡來(lái)適配不同需求。

一、光學(xué)系統(tǒng)靈活可調(diào)

?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據(jù)材料厚度和精度需求靈活搭配。

?光學(xué)組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優(yōu)化光束均勻性和聚焦效果，適應(yīng)不同尺寸的基板。

二、曝光模式與精度控制

?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。

?自動(dòng)間隙控制?：MA-1200A等機(jī)型能穩(wěn)定控制曝光距離，確保成像一致性。

三、適用場(chǎng)景與工藝

?小批量生產(chǎn)利器?：專為高混合、小批量設(shè)計(jì)，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業(yè)。

?實(shí)驗(yàn)研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。

四、其他實(shí)用設(shè)計(jì)

?能量均勻性高?：部分型號(hào)（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質(zhì)量。

?結(jié)構(gòu)穩(wěn)固耐用?：采用不銹鋼材質(zhì)，凈重達(dá)900KG，確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。

FPD光刻設(shè)備科研(DNK)垂直近距離曝光機(jī)

通過(guò)將掩膜和基材垂直設(shè)計(jì)，這是一種變形更小的垂直近距離曝光機(jī)。它還兼容水平輸送型的直線前后處理設(shè)備。

主要特征

·掩膜座/板級(jí)垂直放置。無(wú)需補(bǔ)償面罩/罩座/板級(jí)自重的(偏轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)了一個(gè)簡(jiǎn)單且穩(wěn)定的裝置。

·采用新光學(xué)系統(tǒng)后，影響圖案?jìng)鬏敎?zhǔn)確性的赤角降至傳統(tǒng)系統(tǒng)的一半以下（比我們公司），實(shí)現(xiàn)了更精確的圖案?jìng)鬏敗?/p>

·主體與光源分離。主體的熱分布因結(jié)構(gòu)不將光源熱量傳遞到主體而得到改善。

·為防止因面罩與玻璃基材溫差引起的膨脹和收縮，可以選擇基底階段溫控和面罩冷卻系統(tǒng)。（可選）

·該板尺寸可達(dá)1200毫米X1400毫米。此外，獨(dú)特的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了均勻的批量曝光。

·它可以配備一個(gè)可存儲(chǔ)5個(gè)面具的面具庫(kù)。