DNK/大日本科研株式會(huì)社實(shí)驗(yàn)科研桌面矯正器

DNK曝光機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)核心是靈活的光學(xué)系統(tǒng)、穩(wěn)定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)研究。DNK的曝光機(jī)主要用于科研和小批量生產(chǎn)，比如液晶、晶圓、膠片這類(lèi)材料的實(shí)驗(yàn)和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學(xué)系統(tǒng)可以靈活組合鏡片和透鏡來(lái)適配不同需求。

一、光學(xué)系統(tǒng)靈活可調(diào)

?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據(jù)材料厚度和精度需求靈活搭配。

?光學(xué)組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優(yōu)化光束均勻性和聚焦效果，適應(yīng)不同尺寸的基板。

二、曝光模式與精度控制

?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。

?自動(dòng)間隙控制?：MA-1200A等機(jī)型能穩(wěn)定控制曝光距離，確保成像一致性。

三、適用場(chǎng)景與工藝

?小批量生產(chǎn)利器?：專(zhuān)為高混合、小批量設(shè)計(jì)，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業(yè)。

?實(shí)驗(yàn)研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿(mǎn)足科研和試制需求。

四、其他實(shí)用設(shè)計(jì)

?能量均勻性高?：部分型號(hào)（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質(zhì)量。

?結(jié)構(gòu)穩(wěn)固耐用?：采用不銹鋼材質(zhì)，凈重達(dá)900KG，確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。

DNK/大日本科研株式會(huì)社實(shí)驗(yàn)科研桌面矯正器

主要特征

·非常適合實(shí)驗(yàn)和科研應(yīng)用。

·緊湊設(shè)計(jì)(450×600毫米)，適合桌面安裝。

·標(biāo)配紫外線(xiàn)LED燈室(有效曝光范圍4英寸)。

·接觸暴光類(lèi)型（可選兼容其他曝光模式)。

·價(jià)格合理，手動(dòng)作。