DNK自動近距離曝光系統大日本科研曝光設備

DNK曝光機的技術特點核心是靈活的光學系統、穩定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學系統可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。

一、光學系統靈活可調

?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據材料厚度和精度需求靈活搭配。

?光學組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優化光束均勻性和聚焦效果，適應不同尺寸的基板。

二、曝光模式與精度控制

?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。

?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩定控制曝光距離，確保成像一致性。

三、適用場景與工藝

?小批量生產利器?：專為高混合、小批量設計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業。

?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。

四、其他實用設計

?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質量。

?結構穩固耐用?：采用不銹鋼材質，凈重達900KG，確保設備穩定運行。

DNK自動近距離曝光系統大日本科研曝光設備

這是一種曝光設備，將光刻膠涂層基材疊加在遮罩上并烘烤圖案。

主要特征

·自動近距離曝光系統。，實現整個基底的散裝曝光。

·液晶、陶瓷電容、熱頭等都可以配置以滿足你的需求。

·帶有自動校準功能。(MA-4000)