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產品簡介
| 泵軸位置 | 臥式 | 抽氣量 | 3 |
| 抽氣速率 | 8l/s | 電壓 | 10V |
| 功率 | 1kW | 極限壓力 | 7pa |
| 流量 | 6m3/h | 排出口徑 | 5mm |
| 輸送介質 | 清水泵 | 外形尺寸 | 2 |
| 揚程 | 11m | 葉輪數目 | 單級 |
| 應用領域 | 綜合 | 重量 | 4kg |
| 最大工作壓強 | 9 |
神崎優選ULVAC愛發科多級羅茨型干泵
神崎優選ULVAC愛發科多級羅茨型干泵



日本ULVAC(愛發科)是的真空技術與薄膜沉積設備制造商,專注于為半導體、平板顯示、新能源、科研及制造等領域提供高精度、高可靠性的核心設備與系統解決方案。
ULVAC提供全系列真空泵,覆蓋從粗真空到高真空的完整壓力范圍,廣泛用于半導體制造、分析儀器、真空鍍膜等場景:
?油旋片式真空泵?:如GLD-N137、GLD-N202系列,具備低噪音(<74 dB)、低震動特性,適用于半導體鍍膜、實驗室真空系統,支持24小時連續運行。
?干式真空泵?:如DA-40S膜片泵,無油設計避免污染,適用于高純度工藝環境,如電子元件制造與醫藥包裝。
?分子泵與低溫泵?:用于超高真空環境(10?? Pa以下),支撐電子顯微鏡、質譜儀等精密分析設備。
ULVAC的PVD系統是半導體與光學鍍膜領域的核心技術平臺:
?濺射鍍膜系統?:如SRH-420Z、SME-200U,支持金屬、合金、氧化物靶材的均勻沉積,用于IC互連層、透明導電膜(ITO)、太陽能電池電極。
?電子束蒸鍍系統(EB Evaporation)?:如EGO/EGK系列電子槍,可蒸發高熔點材料(如Al?O?、Ta、W),實現納米級精度薄膜,廣泛應用于光學鏡片AR涂層、裝飾鍍膜與半導體電極制備。
?PECVD系統?:用于沉積SiO?、SiN?等絕緣介質層,是邏輯芯片與存儲器制造的關鍵步驟。
?高頻電源系統(RF Power)?:如RMG-1303集成式射頻電源,專為絕緣靶材濺射設計,實現穩定等離子體控制,提升薄膜均勻性與良率。
?ENTRON-EXX多腔沉積系統?:面向3nm及以下邏輯芯片、DRAM、NAND存儲器量產需求,支持最多12個模塊靈活組合(PVD、預清洗、加熱/冷卻),實現高吞吐量與工藝集成,是制程產線的核心設備之一。
?真空分析儀器?:如飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS),用于薄膜成分深度剖析。
?受托加工服務?:為FPD與半導體客戶提供濺射靶材、腔體、掩膜板等精密部件的機加工與表面處理。
?環保技術整合?:富士裾野工廠已實現100%可再生能源供電,推動綠色制造。
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是一家主要從事流體輸送設備、加藥系統、水質檢測分析及真空設備銷售與維護的企業,主要經營以下產品:氣動隔膜泵、加藥計量泵、粘度計、流量計、在線水質分析儀表以及各類真空泵類、檢漏設備等;產品*,價格公道。我司所提供的產品廣泛應用在水處理、化工、涂料、食品、制藥、金屬加工及半導體等行業,公司擁有專業的售后服務人員及檢測設備,為用戶長期提供各類設備的檢測、保養、維修服務。
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