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韓國GnP GPC-300A CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)是一臺(tái)可以自動(dòng)拋光和清潔300毫米晶圓的機(jī)器。

GnP GPC-300A CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)規(guī)格

1. 拋光部分

頭部、桌面：30~200轉(zhuǎn)/分鐘，旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，頭部振蕩（±15mm）

拋光器尺寸：寬1626 * 深1500 * 高 1950毫米

重量：Aprrox。2500公斤

鍍膜尺寸：Φ 762 毫米（30英寸），特氟龍涂層鋁

壓制方法：可變氣壓電子控制器

膜類型：70~350 g/cm2（1 psi ~ 5 psi） 用于12英寸晶圓

CMP工藝：硅CMP、氧化物CMP（BPSG、TEOS、SC）、金屬CMP（W、Cu）、STI、PGI等

* 選項(xiàng)

剎車墊調(diào)節(jié)方法：振蕩磁頭型或擺臂型

單機(jī)或雙頭系統(tǒng)

摩擦力與溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

2. 清潔部分

更干凈尺寸：寬3,050 / 深1,250 / 高1,960毫米

重量：Aprrox。1200公斤

Brush siz ： ?70（OD） ?32（ID） 320（L） mm

配置：獨(dú)立式，配備4個(gè)清潔站，使用DIW刀進(jìn)行預(yù)清潔，雙面卷刷清洗，以及用N2吹氣沖洗

預(yù)清潔站：DIW噴霧清潔和DIW隔板連接工作站

滾刷站

* 化學(xué)：NH4OH（<1%）或DIW

* 刷子類型：雙面PVA刷

* 旋轉(zhuǎn)速度：全尺寸的<±2%，范圍30 ~ 300轉(zhuǎn)/分鐘

* 化學(xué)品供應(yīng)：4個(gè)噴嘴，通過刷子

* 可用化學(xué)品：4個(gè)化學(xué)

品 * 化學(xué)品流量：< 1升/分鐘全量

* 去離子流量： < 10升/分鐘全量

旋轉(zhuǎn)站              

* 旋轉(zhuǎn)速度：最大2,500轉(zhuǎn)/分鐘

* DIW沖洗 / N2吹氣（選項(xiàng)：超聲波掃擊）

控制

* 工藝：自動(dòng)晶圓裝載，自動(dòng)序列，濕進(jìn)/干燥

* 序列控制：電腦與觸摸顯示器，可編程序列，計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比