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| ≥100件 |
OTSUKA/日本大塚
經(jīng)銷商
OPTM-H3
27
四川成都市
2026/6/23 9:07:06
產品簡介
| 產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 2萬-5萬 |
| 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農產品,電子/電池,電氣,綜合 |
利用顯微微分光膜厚計OPTM series的高精度、微小光點,在線提供制作晶片圖案后的微小區(qū)域測量等膜厚信息
特點
● 膜厚測量范圍1nm~92μm(換算為SiO2)
● 膜厚值高重復精度
● 1點1秒以內的高速測量
● 最小小點Φ3μm)中瞄準模式
● 適合圖案晶片的膜厚映射
● 能夠取得圖案對準用圖像
分體手持靈活測量
細長測量探頭可伸入工裝、曲面、異形工件,車間現(xiàn)場、外協(xié)來料現(xiàn)場直接檢測,無需取樣帶回實驗室。
近紅外適配厚膜體系
H3 長波長光路對厚光刻膠、臨時鍵合樹脂、碳化硅外延層測量穩(wěn)定,短波長 A1/A2 機型測厚上限不足。
無損非接觸
不劃傷薄膜、不污染濕膜,對比渦流 / 接觸式測厚:無需標準曲線、非金屬基材也可測絕對值。
小型輕量化主機
便攜一體機帶觸控屏幕,現(xiàn)場實時顯示厚度數(shù)值與光譜,數(shù)據(jù)本地存儲導出 Excel 報告。
產線兼容集成
探頭可固定于機械手、自動化載臺,對接 MES,實現(xiàn)量產在線連續(xù)檢測。
| 項目 | OPTM-H3 參數(shù) |
|---|---|
| 分光波段 | 近紅外 NIR 900~1600nm |
| 膜厚測量范圍 | 16 nm ~ 92 μm(適配厚膠、樹脂、Si 基底厚層) |
| 最小測量光斑 | φ3 μm,微區(qū)圖案局部測量 |
| 單點測量速度 | ≤1 秒(自動對焦 + 光譜解析完成) |
| 重復精度 | SiO?標準片 ≤±0.1nm |
| 測量方式 | 手持自由測量 / 機械固定集成產線 |
| 樣品適配 | 曲面、異形件、濕膜、晶圓、光學鍍膜 |
| 輸出數(shù)據(jù) | 膜厚、n/k 光學常數(shù)、多層膜分層厚度、光譜曲線 |
| 通訊 | USB、網(wǎng)口,支持自動化設備聯(lián)動 |
規(guī)格

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