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| ¥32000 |
| ≥100件 |
OTSUKA/日本大塚
經銷商
OPTM-H1
41
四川成都市
2026/6/23 9:12:43
產品簡介
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 2萬-5萬 |
| 應用領域 | 醫療衛生,食品/農產品,電子/電池,電氣,綜合 |
利用顯微微分光膜厚計OPTM series的高精度、微小光點,在線提供制作晶片圖案后的微小區域測量等膜厚信息
特點
● 膜厚測量范圍1nm~92μm(換算為SiO2)
● 膜厚值高重復精度
● 1點1秒以內的高速測量
● 最小小點Φ3μm)中瞄準模式
● 適合圖案晶片的膜厚映射
● 能夠取得圖案對準用圖像
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 光譜區間 | 230~800nm(UV-Vis 紫外波段) |
| SiO?測厚范圍 | 1 nm~35 μm,適配納米級超薄介電層 |
| 最小測量光斑 | 標配 φ20μm,選配高倍鏡頭 φ3μm 微區檢測 |
| 測量速度 | 單點≤1 秒(自動對焦 + 多層膜解析) |
| 重復精度 | SiO?標準片 ≤±0.1nm |
| 解析能力 | 最多同步解析 50 層復合薄膜,同步輸出膜厚、折射率 n、消光系數 k |
| 探頭結構 | 分體輕量化探頭(約 1.1kg),手持 / 機械固定兩用 |
| 通訊 | USB、以太網,對接 MES,導出 Excel 檢測報告 |
紫外波段適配超薄膜
紫外光對 1–100nm 柵氧、氮化硅、超薄光刻膠解析力強,H2/H3 機型無法覆蓋超薄區間;
靈活分體式設計
細長探頭可伸入狹小工裝、晶圓微圖案區域,來料現場快速抽檢,也可搭載機械手量產在線檢測;
納米級微區精準測量
3μm 微小光斑,滿足芯片線路、圖形化晶圓局部薄膜管控;
無損傷檢測
不劃傷軟質光刻膠、超薄氧化層,算法消除基板背面反射干擾;
簡易操作軟件
內置測量向導、批量測量宏程序,自動生成光譜、厚度分布曲線。
規格

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大塚電子主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、OLED、汽車前燈等的光源?照明產業以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產業以及其相關材料的光學特性評價?檢查。以高速?高精度?高可靠性且有市場實際應用的分光器MCPD系列為基礎,在中國的顯示器市場上有著20年以上銷售實例,為許多廠家在研究開發、生產部門所使用。并且在光源?照明相關方面,對國家級研究機構、各個廠家的銷售量在逐步擴大。
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