關鍵詞：納米二氧化鈦光催化涂層、超高壓納米均質機、二氧化鈦漿料制備

納米二氧化鈦憑借優異的光催化活性，在自清潔涂層、抗菌涂層、空氣凈化涂層等領域應用廣泛，是功能性環保涂層的核心材料之一。但納米二氧化鈦自身高表面能帶來的團聚問題，以及傳統分散工藝的固有局限，一直是制約光催化涂層性能的關鍵難題。TRILOS超高壓納米均質機憑借高效的物理分散機制，能夠從根源上改善納米二氧化鈦的分散狀態，優化涂層微觀結構與應用性能，為高品質光催化涂層的研發與規模化生產提供了可靠的技術支撐。 

一、納米二氧化鈦光催化涂層的分散痛點

納米二氧化鈦顆粒粒徑小、比表面積大，在漿料配制過程中極易自發形成緊密的團聚體，這些團聚體無法通過常規攪拌、研磨等方式打散，不僅會大幅降低材料的有效比表面積與光催化活性位點數量，還會造成涂層成膜后厚薄不均、表面粗糙，同時團聚顆粒還會加劇漿料沉降分層，影響產品儲存穩定性與批次一致性，即便搭配分散助劑，也難以實現長效穩定的單顆粒分散狀態，最終導致光催化降解效率、涂層附著力與耐候性均無法達到理想水平，限制了高性能光催化涂層的實際應用效果。

二、TRILOS超高壓納米均質機的工作原理

TRILOS超高壓納米均質機依靠*壓力驅動和分散物料。物料在超高壓力下，經過分散單元的狹小縫隙，瞬間產生*剪切力，將大顆粒物料裁剪成微小碎片。同時，物料高速流動相互撞擊，還會形成空穴效應等協同作用，在不引入額外雜質、不改變材料晶型的前提下，高效破碎納米二氧化鈦團聚體，讓顆粒實現均勻細化與穩定分散，配合耐磨的核心閥件，既能滿足實驗室精細處理需求，也可適配工業化連續生產，實現分散工藝的穩定可控。

該設備不堵不漏，配備10寸工業觸控屏實時監控壓力曲線，壓力可達3000bar。 

圖1 均質機原理圖

三、應用案例

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