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無掩模紫外激光直寫系統 參考價:800000
無掩模紫外激光直寫系統可用于微納結構的高精度圖形加工,實現亞微米級分辨率與高精度定位能力。兼具大面積圖形加工能力與亞微米級精度保證。應用于微型顯示芯片等光電器件...紫外激光直寫光刻機 參考價:100000
紫外激光直寫光刻機設備具備優異的微納精密圖形加工性能,可實現亞微米級成像分辨率與高精度運動定位,融合大面積高效加工與超高加工精度雙重優勢。主要應用于微型顯示芯片...無掩膜光刻機 參考價:50000
無掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統,其傳統系統(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統)可以使用專門為此目的開發的軟件來...