在材料表面鍍膜、等離子體物理研究等科研場景,定制化、高真空、多功能的等離子體實驗裝置是核心研發工具。日本 ARIOS(アリオス)推出的 MiPC-1000 微波等離子體實驗裝置,以全自主設計、靈活定制、高參數性能的優勢,成為科研級等離子體實驗的優選方案。
該裝置采用石英導波管正交式等離子體源,搭載 0~1000W、2.45GHz 微波電源,可產生穩定的微波等離子體,適配 DLC 膜制備、碳納米管生長、等離子體殺菌、真空紫外照射等多種等離子體實驗需求。設備支持基板移動機構,可任意設定基板與等離子體的位置,適配多樣化工藝;等離子體可直接加熱基板,制備金剛石薄膜無需額外加熱器,也可通過遠程等離子體方式避免基板升溫,滿足不同實驗需求。
裝置真空性能優異,搭配渦輪分子泵可實現 5.0×10??Pa 以下的高真空,漏率低至 1.0×10??Pa?m3/sec,支持 H?、Ne、N?、Ar、O?等多種工藝氣體?;遄罡呒訜釡囟冗_ 1000℃,行程 235mm,可精準調控實驗條件;排氣系統標配渦輪分子泵,可選配羅茨泵,滿足不同真空需求。設備自帶推車與減震臺,移動部署便捷,操作面板集成化,直觀管控各項實驗參數。
該裝置廣泛適用于高??蒲袑嶒炇?、材料研發機構,可用于新型材料研發、等離子體物理基礎研究、表面改性工藝優化等場景,覆蓋半導體、新能源、材料科學等多個行業,是一款高定制化、高性能的科研級微波等離子體實驗裝置。