在實(shí)驗(yàn)室材料鍍膜研發(fā)場(chǎng)景,小型高效、功能齊全的濺射鍍膜設(shè)備是核心需求。日本 ARIOS 推出的 SS-DC?RF301 小型濺射裝置,以 JIS 機(jī)架緊湊集成、DC/RF 雙電源可選、高真空性能的優(yōu)勢(shì),成為桌面型濺射鍍膜的優(yōu)選方案。
該設(shè)備搭載 2 英寸磁控管陰極,可利用氬氣等離子體實(shí)現(xiàn)高附著力的堅(jiān)固鍍膜,撞擊粒子能量高,膜層結(jié)合力優(yōu)異。設(shè)備將所有功能緊湊集成在標(biāo)準(zhǔn)機(jī)架內(nèi),僅占辦公桌約一半空間,小型輕量易部署,同時(shí)擁有與大型濺射裝置同等的規(guī)格性能。支持基板上下手動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),可任意設(shè)定靶材與基板的距離,適配多樣化鍍膜需求;基板加熱溫度達(dá) 500℃,可選 800℃高溫款,滿足不同材料鍍膜工藝。
設(shè)備真空性能優(yōu)異,可達(dá) 3×10??Pa 以下高真空,漏率低至 1×10??Pa?m3/sec,搭配渦輪分子泵與隔膜泵,保障鍍膜環(huán)境穩(wěn)定。標(biāo)配冷水機(jī),僅需電力和氬氣即可運(yùn)行,使用便捷;法蘭可互換,支持濺射上 / 濺射下兩種安裝方式,適配不同實(shí)驗(yàn)布局;DC/RF 濺射電源可選,滿足金屬、絕緣材料等不同靶材的鍍膜需求。還提供帶更換室的 UHV 兼容型濺射裝置,滿足超高真空實(shí)驗(yàn)需求。
該設(shè)備廣泛適用于高校科研實(shí)驗(yàn)室、中小企業(yè)研發(fā)部門,可用于薄膜材料制備、表面改性、半導(dǎo)體器件研發(fā)等場(chǎng)景,覆蓋材料科學(xué)、電子制造等多個(gè)行業(yè),是一款高性價(jià)比的桌面型濺射鍍膜設(shè)備。