在材料鍍膜、刻蝕、真空實(shí)驗(yàn)等科研與工業(yè)場(chǎng)景,穩(wěn)定潔凈的超高真空環(huán)境是實(shí)驗(yàn)成功的基礎(chǔ)。日本 ARIOS 推出的 UHVPS 超高真空排氣裝置,依托 20 余年超高真空設(shè)備制造技術(shù),以高真空度、易維護(hù)、高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì),成為真空實(shí)驗(yàn)的核心配套設(shè)備。
裝置從材料選擇、焊接、清洗到表面研磨處理全流程嚴(yán)控工藝,腔體采用 SUS304 不銹鋼并做鏡面電解研磨處理,漏率低至 6.7×10?11Pa?m3/sec,空載狀態(tài)下可達(dá) 1×10??Pa 以下高真空,為鍍膜、刻蝕等實(shí)驗(yàn)提供無(wú)雜質(zhì)污染的潔凈環(huán)境。主腔體標(biāo)配樣品更換艙門(mén),可自由組合等離子體源、加熱機(jī)構(gòu)、蒸鍍?cè)础怏w供應(yīng)系統(tǒng)等組件,適配各類(lèi)真空實(shí)驗(yàn)需求。
設(shè)備采用緊湊型腔體與極簡(jiǎn)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),本體僅約 60kg,尺寸 500mm×600mm×1100mm,搭配帶腳輪與減震器的移動(dòng)臺(tái)架,部署靈活;結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單易拆解,日常維護(hù)輕松便捷,大幅降低運(yùn)維成本。以最小限度配置打造手動(dòng)型設(shè)備,無(wú)需復(fù)雜自動(dòng)化系統(tǒng),以低成本即可引入,適配預(yù)算有限的實(shí)驗(yàn)室與研發(fā)場(chǎng)景,同時(shí)支持根據(jù)客戶要求定制化設(shè)計(jì)制造,滿足個(gè)性化實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景。
裝置搭載渦輪分子泵與羅茨泵組成的排氣系統(tǒng),搭配冷陰極真空計(jì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)真空度;電源采用單相 200V/15A,需 0.4~0.6MPa 壓縮空氣驅(qū)動(dòng);腔體采用 SUS304 O 型圈密封,保障真空穩(wěn)定性,客戶可按需選擇不同品牌泵組,靈活適配實(shí)驗(yàn)需求。
該設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校科研實(shí)驗(yàn)室、材料研發(fā)機(jī)構(gòu)、半導(dǎo)體企業(yè),可作為 MBE 裝置、分子線源等設(shè)備的配套真空系統(tǒng),也可獨(dú)立用于真空鍍膜、表面刻蝕、材料真空處理等各類(lèi)實(shí)驗(yàn),是真空科研領(lǐng)域的通用型核心設(shè)備。