1.光刻機

     Chiller主要用于冷卻光源系統和投影物鏡，確保物鏡溫度穩定，使光刻圖案能夠高精度地投影到硅片上，保障曝光精度和分辨率。

     2.刻蝕機

     在刻蝕工藝中，Chiller負責冷卻反應腔和射頻電源等關鍵部件。反應腔溫度直接影響刻蝕速率和均勻性，精準溫控可確保刻蝕工藝的穩定性和一致性。

     3.化學氣相沉積（CVD）

     CVD過程中，反應氣體在高溫下會釋放大量熱量，若溫度波動可能導致薄膜厚度不均或成分偏差。Chiller通過冷卻反應室和氣體輸送管道，維持穩定的沉積環境，保障薄膜質量。

     4.離子注入機

     Chiller對離子源和加速器電極進行冷卻，確保離子束的強度與能量穩定。溫度波動可能影響離子注入的深度和均勻性，因此精準溫控對工藝結果至關重要。

     5.半導體電學量測設備

     在參數分析儀等量測設備中，溫度變化會影響電子元件的電學特性。Chiller提供穩定的溫控環境，確保測量數據的準確性和可靠性，減少測試誤差。

     Chiller的工作機理

     Chiller 的核心工作機制：基于制冷循環和熱交換原理，通過制冷劑在密閉系統中的相變過程實現熱量轉移。

     其工作流程可分為四個關鍵階段：

     蒸發吸熱：低壓液態制冷劑在蒸發器中吸收被冷卻物體的熱量，汽化為低溫低壓蒸汽。

     壓縮增壓：壓縮機將低溫蒸汽吸入并壓縮，使其變為高溫高壓氣體。

     冷凝放熱：高溫高壓制冷劑進入冷凝器，向冷卻介質（水或空氣）釋放熱量，冷凝為高壓液體。

     節流降壓：高壓液體制冷劑經節流閥減壓后，重新變為低溫低壓液體，返回蒸發器完成循環。

     通過蒸發→壓縮→冷凝→節流的閉環循環，Chiller 持續將設備產生的熱量轉移至外部環境，實現精準溫控。

     中冷低溫生產的半導體器件高低溫測試設備chiller，控溫精度可達±0.1℃，采用多種先進控制技術，提高了設備的穩定性、控制精度和響應速度，應用于蝕刻裝置、CMP等多種半導體相關領域。

     中冷低溫chiller的特點：

· 寬溫度范圍:-20°C~+90°C

· 溫度精度高:靜載時可達±0.5℃

· 觸摸屏操作:友好的人機交互界面，支持遠程通信操作、歷史數據存儲與導出

· 多重保護:超溫超壓干燒漏電以及誤操作等多重人機保護

· 運行穩定可靠:元件均采用有名器件，自研控制系統高效穩定