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ULVAC 愛發科 NOC 系列在線油凈化裝置 NOC-50A/100A/230A/490A 選型規范
ULVAC愛發科NOC系列在線油凈化裝置NOC-50A/100A/230A/490A原理、參數梯度與真空泵配套選型規范油旋片真空泵長期抽除水汽、酸性有機蒸汽、粉塵雜質時，真空油極易乳化酸化、混入固體顆粒物，直接造成極限真空衰減、旋片磨損、泵體故障停機。ULVAC愛發科NOC系列為旋片泵專用在線循環油凈化設備，可在真空泵不間斷運行狀態下持續循環過濾油品，覆蓋小型GLD、中型VD、大型VS全系列旋片泵配套需求，主力型號包含NOC-50A、NOC-100A、NOC-230A、NOC-490A，是化工干 -
ULVAC 愛發科 G-TRAN 系列真空計 SC1/SC1-N、SH2-1/SH2-2、ST200 選型規范
ULVAC愛發科G-TRAN系列真空計SC1/SC1-N、SH2-1/SH2-2、ST200原理、參數梯度與工況選型規范ULVAC愛發科G-TRAN模塊化真空測量系列是半導體、光學鍍膜、鋰電、真空熱處理產線標配壓力監測單元，依靠冷陰極、復合熱陰極、一體化熱陰極三類技術路線覆蓋中高真空全區間，核心型號包含冷陰極SC1、國產化SC1-N，復合電離控制器SH2-1、SH2-2，一體式三極管熱陰極ST200。三類產品測量區間、耐受工藝氣體、控制功能差異明顯，是真空系統真空規選型、舊設備替換的核心參考品類 -
ULVAC 愛發科 YM 系列真空機組全譜系解析：型號參數、分類與工況選型規范
ULVAC愛發科YM系列真空機組全譜系解析：YMV、YM-VS、YM-RL、YM-VD機組型號參數、結構分類與工況選型規范ULVAC愛發科YM系列為集成式成套真空機組，出廠完成泵體、電機、管路、控制、冷卻系統一體化裝配，無需客戶現場組裝調試，廣泛應用光學鍍膜、鋰電脫氣、精密熱處理、化工脫泡、實驗室真空等場景。產品線劃分為四大子系列：YMV小型旋片機組、YM-VS旋片增壓一體式機組、YM-RL風冷羅茨增壓機組、YM-VD水冷重載羅茨真空機組，覆蓋小流量實驗設備至中大型量產產線全需求，主流型號包含Y -
ULVAC 愛發科 NRL 系列干式羅茨泵產品參數、結構特點與行業選型應用
ULVAC愛發科NRL系列干式羅茨泵NRL60A/NRL90A/NRL180A產品參數、結構特點與行業選型應用在中高潔凈真空工藝場景中，ULVAC愛發科NRL系列無油羅茨增壓泵憑借輕量化干式結構、低水汽耐受特性，成為鋰電、光學鍍膜、食品凍干、化工脫泡領域主流配套機型，主力在售型號包含NRL60A、NRL90A、NRL180A三款，覆蓋中小流量真空系統需求，區別于NB重載型羅茨泵，NRL系列主打潔凈、低噪、輕量化設計，適配間歇與半連續式真空產線。一、產品結構核心設計優勢NRL60A、NRL90A、 -
ULVAC愛發科 NB 系列羅茨真空泵參數迭代及工況選型指南
ULVAC愛發科NB系列羅茨真空泵新舊型號解析：NB-A老款與NB-B新型參數迭代及工況選型指南一、系列產品概述ULVAC愛發科NB系列為工業主流干式羅茨增壓泵，廣泛搭配油旋片前級泵組成真空機組，覆蓋100～2400m3/h全流量區間，用于10?1～103Pa中低壓真空增壓場景。產品線分為兩代：老款NB100A、NB300A、NB600A、NB1200A；現役新型NB100B、NB300B、NB600B、NB1200B、NB2400B，新增超大流量NB2400B填補大腔體量產需求，是光電、化工干 -
愛發科ULVAC Qulee YTP-H差分排氣質譜系統工藝應用研究
愛發科ULVACQuleeYTP-H差分排氣質譜系統工藝應用研究針對常壓、中高壓、低真空多工況氣相組分同步檢測需求，本文系統解析ULVACQuleewithYTP-H一體化差分排氣殘余氣體分析儀系統，闡述DesktopYTP-H多級梯度降壓排氣原理，梳理全系列壓力規格、分析探頭參數，對比CGM2、RGM2適用邊界差異，分化工、真空、半導體場景給出標準化選型方案，為高壓反應釜、常壓等離子、寬區間真空制程配套氣體分析設備提供完整技術依據。一、系統核心差分排氣技術原理QuleewithYTP-H由Qu -
ULVAC Qulee RGM2 系列反應型殘余氣體分析儀 半導體腐蝕真空工藝應用研究
ULVACQuleeRGM2系列反應型殘余氣體分析儀技術架構、性能參數及半導體腐蝕真空工藝應用研究針對刻蝕、CVD、ALD等含腐蝕性活性氣體真空工藝常規質譜設備耐腐蝕差、壓力適配窄、響應滯后等短板，本文系統研究ULVAC愛發科QuleeRGM2一體化差動式工藝氣體監測儀。闡述其四極質譜檢測、磁屏蔽封閉式抗腐蝕離子源、集成差動排氣系統核心技術，梳理RGM2-202/RGM2-302全系列硬件規格、檢測性能，對比CGM2緊湊型RGA適用場景差異，分工藝給出選型方案與在線質控邏輯，為半導體、精細真空化 -
ULVAC Qulee CGM2 系列殘余氣體分析儀（RGA）與真空化工制程應用研究
ULVACQuleeCGM2系列殘余氣體分析儀（RGA）技術原理、規格參數與真空化工制程應用研究殘余氣體分析儀（RGA）是真空化工、薄膜制備、半導體工藝中表征腔體氣相組分、評估真空潔凈度、檢測微泄漏的核心分析儀器。本文以ULVAC愛發科CGM2緊湊型工藝氣體監測儀為研究對象，闡述其四極質譜檢測原理，系統梳理全系列硬件規格、傳感檢測性能，對比傳統差動排氣式RGA的技術優勢，針對濺射鍍膜、真空合成、密閉腔體檢漏三類化工真空工藝給出選型方案與質控應用邏輯，為真空工藝設備配套選型提供技術依據。一、設備核
