| 產地類別 |
進口 |
價格區間 |
1-5萬 |
| 應用領域 |
電子/電池,電氣,綜合 |
日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀
裝置概述
類型:多功能簡易操作型磁控濺射裝置,適用于多種金屬的薄膜制備。
特點:
小型桌面型設計,占用空間小。
低電壓涂層,樣品采用浮動式設計,可減少樣品損傷。
配備觸摸屏操作面板,支持配方功能,可實現全自動濺射成膜。
日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀
日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀
裝置概述
該裝置是多用途的簡易操作型磁控濺射成膜裝置。
小型桌上型·小尺寸裝置,可以在強磁場下實現多種金屬的成膜。
通過低電壓涂層,并且樣品是浮動式的,可以減少樣品損傷。
設計了簡易操作的制品化,具備觸摸屏操作、遠程功能、順序控制,實現了全自動化的磁控濺射成膜。
裝置概述
該裝置是多用途的簡易操作型磁控濺射成膜裝置。
小型桌上型·小尺寸裝置,可以在強磁場下實現多種金屬的成膜。
通過低電壓涂層,并且樣品是浮動式的,可以減少樣品損傷。
設計了簡易操作的制品化,具備觸摸屏操作、遠程功能、順序控制,實現了全自動化的磁控濺射成膜。
裝置概述
該裝置是多用途的簡易操作型磁控濺射成膜裝置。
小型桌上型·小尺寸裝置,可以在強磁場下實現多種金屬的成膜。
通過低電壓涂層,并且樣品是浮動式的,可以減少樣品損傷。
設計了簡易操作的制品化,具備觸摸屏操作、遠程功能、順序控制,實現了全自動化的磁控濺射成膜。