HMDS增粘勻膠機 參考價：1
HMDS增粘勻膠機應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進(jìn)而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展...
掩膜板涂膠機 參考價：面議
掩膜板涂膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用...
針筒式自動旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
全柜式涂膠顯影機 參考價：面議
全柜式涂膠顯影機該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）...
桌上型手動旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
勻膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12...
自動滴膠勻膠機 參考價：面議
自動滴膠勻膠機，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
桌上型自動顯影機 參考價：面議
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機采用框架...
全柜式涂膠顯影一體機 參考價：面議
概述： SHD8-SE涂膠顯影系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結(jié)...
光阻成像儀 參考價：面議
光阻成像儀/桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時...
鈣鈦礦旋涂儀 參考價：面議
鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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