DE600DL是一款由北京德儀天力科技發展有限公司研發的納米膜層磁控濺射系統,是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺,配備多個磁控濺射源,可沉積金屬、半導體、介質材料。設備可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、可選濺射楔形膜等。主要用于材料與薄膜沉積的研發和中試生產。
1、DE600DL磁控濺射系統核心配置
- 高真空濺射室環境
- 濺射距離可調
- 多達12個濺射源
- 高精度鍍膜速率和膜厚控制
- 樣品可高溫加熱、低溫冷卻
- 強薄膜附著力
- 配備直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源
- 優質薄膜質量,具備良好的膜厚均勻性和重復性
2、可選配置
- LOAD LOCK,全自動送樣
- 離子束清洗或輔助沉積
- RF等離子體清洗
3、主要技術指標
- 鍍膜腔室極限真空度:優于3E-8Torr(或9E-9Torr)
- 樣品加熱器最高溫度:600℃(可選900℃)
- 膜厚均勻性:優于+/-3%
- 基片尺寸:可選:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
4、核心功能與應用
- 可沉積金屬、半導體、介質材料
- 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜
- 可做反應濺射
- 適用場景:研發和中試
5、控制方式
PLC+PC全自動控制
