磁控濺射PVD（自動化程度高） 參考價：面議
磁控濺射PVD鍍膜設備支持直流、脈沖直流、射頻電源；兼容HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源。
pvd鍍膜設備 參考價：面議
DE700型pvd鍍膜設備定位于科研機構的新材料研發、中試線工藝驗證，以及中小規模的工業化量產。其靈活的電源配置、可選的自動化送樣模塊以及穩定的薄膜沉積性能，能...
多腔體薄膜沉積系統 參考價：面議
DE3000 高真空多腔室薄膜沉積系統多個工藝腔室，支持高真空或超高真空環境，全機PLC+PC全自動控制，適于Fab百級凈化間、無人車間。
多腔體磁控濺射系統 參考價：面議
DE5000 多腔體磁控濺射系統是北京德儀天力科技發展有限公司推出的一款面向科研、中試及量產的材料制備設備。
DE700 pvd磁控濺射鍍膜機 參考價：面議
pvd磁控濺射鍍膜機濺射距離可調，直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源。
DE700 磁控濺射PVD 參考價：面議
磁控濺射PVD是一款面向科研中試及工業化量產的PVD磁控濺射鍍膜系統，具備高真空濺射環境、多濺射源配置以及濺射距離精準可調的結構設計，確保工藝靈活性與沉積穩定性...
薄膜沉積系統 參考價：面議
DE3000 高真空多腔室薄膜沉積系統多個工藝腔室，支持高真空或超高真空環境，全機PLC+PC全自動控制，適于Fab百級凈化間、無人車間。
pvd磁控濺射鍍膜機 參考價：面議
pvd磁控濺射鍍膜機濺射距離可調，直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源。
熱阻蒸發真空鍍膜系統 參考價：面議
DE400DL 熱阻蒸發真空鍍膜系統，高真空或超高真空蒸鍍環境，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性。
雙電子槍共蒸鍍膜系統 參考價：面議
DE500CL 雙電子槍共蒸鍍膜系統，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性，高真空或超高真空鍍膜環境。
磁控濺射PVD 參考價：面議
磁控濺射PVD鍍膜設備支持直流、脈沖直流、射頻電源；兼容HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源。
中試-量產 磁控濺射系統 參考價：面議
DE700PVD 中試-量產 磁控濺射系統，濺射距離可調，直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源。
磁控濺射系統 參考價：面議
DE500DL納米膜層磁控濺射系統配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料，可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、可選濺射楔形膜等，是材料和薄膜沉...
磁控濺射系統 參考價：面議
DE600DL納米膜層磁控濺射系統是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺，配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料。設備可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、...
多腔體磁控濺射系統 參考價：面議
DE5000 多腔體磁控濺射系統是北京德儀天力科技發展有限公司推出的一款面向科研、中試及量產的材料制備設備。
多腔體電子束蒸鍍系統 參考價：面議
DE3000ER 多腔體電子束蒸鍍系統，PLC+PC全自動控制樣品傳輸和全部工藝流程。
超導量子材料薄膜加工設備 參考價：面議
DE500DUL 超導量子材料薄膜加工設備，直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源，樣品可高溫加熱和低溫冷卻。
多電子槍蒸發鍍膜系統 參考價：面議
DE600CL 多電子槍蒸發鍍膜系統，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性，高精度鍍膜速率和膜厚控制。
熱阻蒸發薄膜沉積系統 參考價：面議
DE400DL 熱阻蒸發薄膜沉積系統，高真空或超高真空蒸鍍環境，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性。
高真空多腔室薄膜沉積系統 參考價：面議
DE3000 高真空多腔室薄膜沉積系統，全機PLC+PC全自動控制，適于Fab百級凈化間、無人車間。
中試-量產 電子束蒸鍍機 參考價：面議
DE400P 中試-量產 電子束蒸鍍機優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性，高精度鍍膜速率和膜厚控制。
超高真空電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
DE400DUL 超高真空電子束蒸發鍍膜系統，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性，高精度鍍膜速率和膜厚控制。
電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
DE400DHL 電子束蒸發鍍膜系統，優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性，高精度鍍膜速率和膜厚控制。
熱阻蒸發薄膜沉積系統 參考價：面議
DE400T 熱阻蒸發薄膜沉積系統，可沉積金屬、半導體、介質材料、有機材料，可用于沉積單層、多層薄膜。
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