DE400DHL電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置一個多坩堝電子束蒸發(fā)源,可在基片蒸發(fā)沉積金屬、半導體或介質(zhì)材料,是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。
DE400DHL 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)詳細介紹
1、核心優(yōu)勢
- 高真空蒸鍍環(huán)境
- 樣品可高溫加熱、低溫冷卻
- 高精度鍍膜速率與膜厚控制
- 優(yōu)質(zhì)薄膜質(zhì)量,膜厚均勻性與重復性優(yōu)異
2、自動化與選配功能
- 可選離子束清洗或輔助沉積
- 可選 RF 等離子體清洗
- PLC+PC 全自動控制
- 可選 LOAD LOCK,全自動送樣
3、主要技術(shù)指標
- 膜厚均勻性:優(yōu)于+/-3%
- 極限真空度:3E-8 Torr
- 膜厚分辨率:0.1 A
- 蒸發(fā)速率分辨率:0.01 A/s
- 基片尺寸:可選:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
4、材料與工藝能力
- 可沉積金屬、半導體、介質(zhì)材料
- 支持單層、多層薄膜制備
- 支持 LIFT-OFF 工藝蒸鍍
- 支持低維材料制備
- 多種樣品臺或客制化樣品臺,滿足特殊工藝薄膜制備
5、適用場景
- 研發(fā)、中試及量產(chǎn)使用
