一、產品定位與命名說明

1. 系列定義

2. 型號命名規則

• 1AP / 2AP / 4AP：單 / 雙 / 四模組配置（AP = 標準潔凈面板款）

• B01/B02：管路潔凈等級、接頭規格后綴

• 內置膜芯：PF-001L-ND2 / PF-001L-NA（大流量低壓損純水專用 PF-L 系列）

二、雙重核心工作原理（脫氣 + 防靜電一體）

1）脫氣功能（內置 PF-L 內灌流膜）

2）防靜電控電阻率（CO?膜溶入系統）

1. 一路超純水單獨通入 PF-L 模組，外側通入高純 CO?，制成CO?飽和純水；

2. 飽和碳酸水與主路高純水按比例自動混合；

3. CO?電離微量離子，精準下調純水電阻率（區間 0.1~15 MΩ?cm 可調）；

4. 提升水體導電能力，快速導出靜電，避免靜電擊穿精細線路、粉塵靜電二次吸附基板。

三、P 系列主流型號完整參數

通用工況參數

• 工作水溫：20～30℃（優），5～40℃極限

• 液體工作壓力：0.1～0.3MPa，瞬時耐壓 0.5MPa

• CO?供氣壓力：0.05～0.15MPa

• 膜芯質保：原廠 5 年長效壽命

• 接液材質：UPVC 殼體 + 低析出 EPDM 密封，無金屬離子析出，半導體高潔凈標準

四、P 系列（面板式）核心優勢

1. 集成一體，省去兩套設備采購

2. EIA 標準面板機架，設備集成友好

3. PF-L 大流量低壓損膜芯

4. 電阻率閉環精準自控

5. 低析出、半導體無塵制程適配

6. 故障率低，運維簡單

五、適用介質（僅限純水體系）

六、典型應用場景

1. 半導體晶圓制程

   8/12 寸硅片 SC 清洗、掩模版清洗、高壓純水噴射切割，消除靜電擊穿柵極、粉塵吸附缺陷；

2. LCD/OLED/ 顯示面板

   玻璃基板、彩色濾光片水洗工序，防止靜電造成像素斷線、色斑；

3. 光伏硅片、功率器件 SiC 清洗

   純水循環脫氣 + 防靜電，避免硅片氧化水印、靜電損傷外延層；

4. 光學元件、精密零部件超純水噴淋清洗

七、eFLOW P（面板式） vs C（落地柜式）區別

八、使用與維護要點

1. 進水必須預先過濾（5μm 精密過濾器），防止顆粒堵塞 PF-L 膜絲；

2. 每 1～2 個月對內置 PF-L 模組反向純水沖洗，恢復脫氣效率；

3. CO?鋼瓶配套減壓閥穩壓 0.05～0.15MPa，氣路全程密封防泄漏；

4. 長期停機需排空管路，用超純水封存膜芯，避免干燥失效；

5. 嚴禁通入有機溶劑、，膜體溶脹后損壞。

九、和單獨 PF 脫氣模組選型區分

1. 僅需純水脫氣、無防靜電需求：選 PF-D（中小流量）/PF-L（大流量）單支膜柱；

2. 清洗工序既要脫泡除氧，又要消除靜電、控電阻率：直接選用eFLOW P 系列一體機；

3. 蝕刻液、光阻、溶劑強腐蝕藥液脫氣：單獨選用 PF-F 氟膜模組，不可搭配 eFLOW。