一、工作原理

原生 18.2MΩ?cm 超純水絕緣性強，水流沖刷晶圓、PFA 管路極易蓄積靜電，造成線路靜電擊穿、粉塵靜電二次吸附、清洗水印缺陷。eFLOW 利用 DIC 中空纖維透氣膜技術(shù)：

1. 脫氣支路：內(nèi)置 PF-L 模組真空脫除水中 O?、原生 CO?，消除氣泡缺陷；

2. CO?溶入支路：超純水通入中空纖維內(nèi)腔，膜外側(cè)通入高純 CO?，生成碳酸飽和水；

\(\boldsymbol{H_2O+CO_2 \rightleftharpoons H_2CO_3 \rightleftharpoons H^+ + HCO_3^-}\)微量離子提升水體導(dǎo)電能力；3. 自動配比混合：飽和碳酸水與主路超純水動態(tài)混合，閉環(huán)精準(zhǔn)控制出水電阻率（0.1～15 MΩ?cm 可調(diào)），持續(xù)導(dǎo)出靜電。

核心：不添加化學(xué)藥劑，僅溶解 CO?，不引入雜質(zhì)，維持超純水潔凈等級。

二、型號體系與命名規(guī)則

兩大機型大類

1. P 系列（AP 面板機架式，主流）適配 EIA 標(biāo)準(zhǔn)機柜嵌入式安裝，設(shè)備機臺內(nèi)部集成優(yōu)選

• 1AP：單模組；流量 1～16 L/min

• 2AP：雙模組；流量 5～30 L/min

• 4AP：四模組；更大流量產(chǎn)線循環(huán)后綴 B01 / B02：潔凈接頭、管路規(guī)格；接液無金屬構(gòu)造

2. C 系列（AC 落地柜式）獨立落地柜體，內(nèi)置 CO?氣瓶倉、電阻率控制柜

• 1AC / 2AC / 3AC，適合純水站集中調(diào)質(zhì)

三、核心特點

1. 電阻率控制穩(wěn)定性優(yōu)異分流混合結(jié)構(gòu)，進水流量波動時阻值漂移極小，滿足 8/12 寸優(yōu)良制程嚴(yán)苛要求；

2. 一機雙功能：脫氣 + 防靜電調(diào)質(zhì)內(nèi)置 PF-L 低壓損純水脫氣模組，同步去除溶解氧、抑制氧化缺陷；

3. 低故障、長壽命無旋轉(zhuǎn)泵、無動態(tài)密封；CO?溶解模組原廠質(zhì)保 5 年；

4. 低壓損設(shè)計基于 PF-L 低壓損膜芯，不需要額外增壓泵，便于產(chǎn)線改造；

5. 實時監(jiān)測輸出內(nèi)置電阻率傳感器，信號可對接上位機，異常報警；

6. 全潔凈接液PMP 中空纖維 + UPVC+EPDM，無金屬析出，匹配 UPW 超純水系統(tǒng)。

四、介質(zhì)適用邊界

?適用：18.2MΩ?cm DI 超純水、晶圓 / 掩模 / 面板清洗純水、高壓噴淋、切割純水?禁止：有機溶劑、HF、濃酸堿、各類藥液

腐蝕流體脫氣 / 調(diào)質(zhì)不能使用 eFLOW，選用 PF-F 全氟模組單獨配置。

五、典型應(yīng)用場景

1. 半導(dǎo)體：硅片槽式清洗、高壓噴射清洗、晶圓切割清洗、掩模版清洗；

2. 顯示面板：LCD/OLED 玻璃基板、彩濾片水洗工序；

3. 第三代半導(dǎo)體（SiC/GaN）功率器件清洗；

4. 光學(xué)元件、精密零件超純水噴淋制程。