一、工作原理

原生 18.2MΩ?cm 超純水絕緣性強，水流沖刷晶圓、PFA 管路極易蓄積靜電，造成線路靜電擊穿、粉塵靜電二次吸附、清洗水印缺陷。eFLOW 利用 DIC 中空纖維透氣膜技術：

1. 脫氣支路：內置 PF-L 模組真空脫除水中 O?、原生 CO?，消除氣泡缺陷；

2. CO?溶入支路：超純水通入中空纖維內腔，膜外側通入高純 CO?，生成碳酸飽和水；

\(\boldsymbol{H_2O+CO_2 \rightleftharpoons H_2CO_3 \rightleftharpoons H^+ + HCO_3^-}\)微量離子提升水體導電能力；3. 自動配比混合：飽和碳酸水與主路超純水動態混合，閉環精準控制出水電阻率（0.1～15 MΩ?cm 可調），持續導出靜電。

核心：不添加化學藥劑，僅溶解 CO?，不引入雜質，維持超純水潔凈等級。

二、型號體系與命名規則

兩大機型大類

1. P 系列（AP 面板機架式，主流）適配 EIA 標準機柜嵌入式安裝，設備機臺內部集成優選

• 1AP：單模組；流量 1～16 L/min

• 2AP：雙模組；流量 5～30 L/min

• 4AP：四模組；更大流量產線循環后綴 B01 / B02：潔凈接頭、管路規格；接液無金屬構造

2. C 系列（AC 落地柜式）獨立落地柜體，內置 CO?氣瓶倉、電阻率控制柜

• 1AC / 2AC / 3AC，適合純水站集中調質

三、核心特點

1. 電阻率控制穩定性優異分流混合結構，進水流量波動時阻值漂移極小，滿足 8/12 寸優良制程嚴苛要求；

2. 一機雙功能：脫氣 + 防靜電調質內置 PF-L 低壓損純水脫氣模組，同步去除溶解氧、抑制氧化缺陷；

3. 低故障、長壽命無旋轉泵、無動態密封；CO?溶解模組原廠質保 5 年；

4. 低壓損設計基于 PF-L 低壓損膜芯，不需要額外增壓泵，便于產線改造；

5. 實時監測輸出內置電阻率傳感器，信號可對接上位機，異常報警；

6. 全潔凈接液PMP 中空纖維 + UPVC+EPDM，無金屬析出，匹配 UPW 超純水系統。

四、介質適用邊界

?適用：18.2MΩ?cm DI 超純水、晶圓 / 掩模 / 面板清洗純水、高壓噴淋、切割純水?禁止：有機溶劑、HF、濃酸堿、各類藥液

腐蝕流體脫氣 / 調質不能使用 eFLOW，選用 PF-F 全氟模組單獨配置。

五、典型應用場景

1. 半導體：硅片槽式清洗、高壓噴射清洗、晶圓切割清洗、掩模版清洗；

2. 顯示面板：LCD/OLED 玻璃基板、彩濾片水洗工序；

3. 第三代半導體（SiC/GaN）功率器件清洗；

4. 光學元件、精密零件超純水噴淋制程。