在精密制造領域,基材表面的清潔度直接影響后續工藝的品質。SEN日森紫外線表面處理技術通過短波長紫外線的光化學反應,為精密清洗提供了一種高效、環保的解決方案。
紫外線表面清洗法利用短波長紫外線(主要為184.9nm和253.7nm)照射基材表面。其中,184.9nm紫外線可將空氣中的氧氣分解為活性氧原子,活性氧原子與253.7nm紫外線共同作用,將基材表面的有機污染物分解為二氧化碳和水等揮發性物質。整個過程在常溫常壓下進行,不產生污水和廢液。
PL17-110是專為驗證紫外線表面處理效果而設計的試驗機型。光源為160mm乘160mm的110W合成石英玻璃面光源,可產生高能量的短波長紫外線。設備內置手動快門,可精確控制紫外線照射時間。試驗臺到光源的高度可通過升降機任意調節,適應不同厚度樣品的處理需求。
紫外線表面處理技術廣泛應用于半導體硅片、ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜版等材料的精密清洗。在液晶、觸屏的玻璃基板清洗、ITO清洗、樹脂固化、塑料、金屬、樹脂等材料的表面處理中同樣具有重要價值。
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