VAT 真空蝶式調壓閥（61.3 系列）61328-KAAE-0001
專為高真空下游壓力控制設計，適用于 CVD、ALD 等苛刻工藝，兼具快速響應、精準調節與高可靠性。
一、基本規格參數
- 商品編號 61328-KAAE-0001
- 尺寸：DN 25（1"）
- 法蘭標準：ISO-KF
- 閥體材料：鋁
- 密封材質 ： FKM
- 驅動器：步進電機，集成控制器接口 + 傳感器（邏輯 A/D / 2 個傳感器）
- 控制器配置：SPS（可編程邏輯控制）
- 重量：2.2 kg / 4.85 lbs
二、壓力與電導率性能
- 壓力范圍：1 × 10?? mbar ～ 1.2 bar（abs）
- 閘門允許壓差：≤ 1 bar
- 典型關閉/開啟時間 ： 90 ms
- 最大電導率（N? 分子流）：22 L/s
- 最小可控電導率（N? 分子流）：0.15 L/s
- 泄漏率（閥體密封）：1 × 10?? L/s
三、溫度與耐用性
- 閥體最高溫度：≤ 150 °C
- 初次維修前循環次數：2,000,000 次
四、產品特點與優勢
- 快速精準的下游壓力控制
集成壓力控制器可在 0.1 秒內快速計算并調整閥板位置，實現設定壓力的逼近，特別適用于精細控制的 CVD / ALD 工藝。
- 優異的抗污染能力
閥板作為節流元件，通過改變開度調節流導。針對氣流中含粒子或碎屑沉積的惡劣下游工藝進行優化，即使在高粒子載荷下仍保持正常運行。
- 久經考驗的可靠性
該系列已成功應用于數千個嚴苛工藝現場，堅固的設計、直接安裝選項以及簡便的維護流程，保障長期穩定運行。
- 靈活的定制選項
可提供多種閥體材料、表面處理、彈性體、法蘭連接形式、特殊尺寸，以及自適應 / 固定 PI 下游 / 軟抽等特殊控制算法，方便適配不同真空應用需求。
五、典型應用領域
- 化學氣相沉積（CVD）
- 原子層沉積（ALD）
- 高真空鍍膜
- 半導體制造
- 科研真空系統
1
化工儀器網