一、產品概述：

普發渦輪分子泵半導體檢漏實驗室真空機組泵HiPace 400 是德國普發真空（Pfeiffer Vacuum，隸屬于 BUSCH 集團）高性能渦輪分子泵，適配科研、鍍膜、分析儀器等高真空工況，抽氣性能優異、運行穩定、安裝靈活，原廠配套配件齊全，可搭配各類前級泵搭建真空機組。

二、核心技術特點：

1. 高效抽氣性能 優化轉子幾何結構，氣體負載處理能力強，氦氣、氫氣等輕氣體抽速突出，各類氣體壓縮比表現優秀，兼容多種前級泵，氣體通量大，適配大出氣工藝。

2. 長效穩定耐用 搭載行業主流混合軸承技術，配套長效專用潤滑，大幅延長泵體使用壽命，減少設備維護頻次。

3. 安裝運行友好 支持任意姿態安裝，整機約 11.6kg；4 分鐘快速啟動，運行噪音低至 50 dBA（EN ISO 2151 標準），車間實驗室使用安靜無干擾。

4. 通訊與拓展標配 RS-485、遠程控制接口，可選配多類現場總線；原廠全套配件可選：電源套件、顯示單元、安全閥、放氣組件、斷電放氣裝置、減震器、安裝支架、各類連接線纜等。

5. 通用標準法蘭 進氣口 DN100 ISO-K/ISO-F/CF-F；排氣 DN25 ISO-KF，預留 G1/4" 輔助接口，適配多種真空密封標準。

三、關鍵技術參數：

1. 各氣體抽速

· N?（氮氣）：355 l/s

· Ar（氬氣）：320 l/s

· He（氦氣）：470 l/s

· H?（氫氣）：445 l/s

2. 極限壓縮比

· N?、Ar：1×1011

· He：3×10?

· H?：4×10?

3. 額定轉速氣體通量

· N?：6.5 hPa·l/s

· H?：14 hPa·l/s

· He：20 hPa·l/s

· Ar：3.5 hPa·l/s

4. 工況物理參數

· 氮氣前級真空：11 hPa

· 啟動加速時間：4 min

· 運行噪音：50 dBA

· 整機重量：約 11.6 kg

· 標準通訊：RS-485、遠程控制

· 安裝方式：任意角度安裝

四、主流應用場景：

1. 光學 / 半導體鍍膜 PVD、光學鍍膜、LED、硬質涂層設備，穩定提供工藝高真空，保障薄膜均勻度。

2. 科研實驗室設備 等離子體實驗、納米材料研究、粒子相關實驗，輕氣體高抽速降低真空本底。

3. 分析檢測儀器 各類質譜儀、氦檢檢漏儀、表面分析設備，提升檢測精度。

4. 工業真空加工 真空熱處理、電子束焊接、元器件真空封裝、腔體檢漏等場景。

五、供貨與售后保障：

北京艾禾真空現貨供應普發渦輪分子泵半導體檢漏實驗室真空機組泵普發 HiPace 400 渦輪分子泵，全新整機及配套配件常備庫存，交貨快；提供原廠標準質保，配套真空方案設計、安裝指導、維修保養全流程技術服務。

配套原廠配件清單：

電源適配器、供電電纜、通訊連接線、多型號現場總線模塊、電源顯示單元、安裝套件、安全閥、真空放氣配件、斷電自動放氣單元、減震阻尼器等。