eFLOW 1AC-P201 屬于 DIC 迪愛生 eFLOW C 系列柜式超純水防靜電裝置，依托迪愛生自研 SEPAREL 中空纖維透氣膜技術(shù)打造，面向小流量半導體濕法清洗工藝設(shè)計，適配 1~16L/min 流量工況，多用于獨立式清洗設(shè)備、研發(fā)實驗清洗機、小型單片清洗機，是區(qū)別于 AP 面板嵌入式機型的獨立機柜款電阻率調(diào)控、流體靜電抑制設(shè)備。型號編碼中 1 代表單模組配置，AC 代表一體化機柜式結(jié)構(gòu)，P201 為標準管路配置規(guī)格，整機集成度高，到貨后可直接接入管路投產(chǎn)。

18.2MΩ?cm 超純水擁有絕緣性能，水流高速撞擊晶圓、掩膜、光學基板以及 PFA 管路內(nèi)壁時極易持續(xù)累積靜電。靜電會造成兩大典型生產(chǎn)缺陷：靜電吸附空氣中微顆粒，引發(fā)基板表面顆粒不良；瞬時靜電放電擊穿芯片微細線路、光刻圖形，造成元器件性損毀。傳統(tǒng)防靜電方案依靠添加化學藥劑，容易造成水質(zhì)污染，同時電阻率穩(wěn)定性較差、維護頻繁。eFLOW 系列采用純物理氣液交換工藝，全程無需化學藥劑添加，從流體源頭抑制靜電產(chǎn)生，契合半導體行業(yè)高潔凈生產(chǎn)規(guī)范。

設(shè)備內(nèi)置 1 組 PF-001L-NA 原廠 CO?溶解模組，依靠中空纖維膜實現(xiàn)氣液滲透交換。超純水通入中空纖維內(nèi)腔，高純二氧化碳由膜外側(cè)透過膜壁溶解進入水體，二氧化碳電離生成微量導電離子，形成碳酸飽和純水。設(shè)備通過內(nèi)部精密分配管路，動態(tài)調(diào)節(jié)碳酸飽和純水與主管道超純水混合比例，持續(xù)穩(wěn)定調(diào)控出水電阻率，調(diào)節(jié)區(qū)間覆蓋 0.1～15MΩ?cm。整套氣液交換流程在密閉潔凈模組內(nèi)部完成，不會引入雜質(zhì)污染超純水，同時可同步脫除水體內(nèi)部溶解氣體，減少清洗工序氣泡殘留，改善基板水印、針孔、表面斑點等清洗缺陷。

eFLOW 1AC-P201 標準處理流量區(qū)間 1～16L/min，和 1AP-B02 流量區(qū)間保持一致，二者核心差異為安裝形式。1AP 機型為 19 英寸 EIA 面板嵌入式，嵌入設(shè)備機柜；1AC-P201 為獨立一體化機柜結(jié)構(gòu)，內(nèi)置電阻率傳感器、控制單元、管路框架，無需占用清洗設(shè)備內(nèi)部安裝空間，適合不方便改造設(shè)備機柜、實驗產(chǎn)線、改造項目場景。設(shè)備所有接液零部件采用高純潔凈耐腐蝕材質(zhì)，匹配無塵車間使用環(huán)境；單模組結(jié)構(gòu)響應(yīng)迅速，在常規(guī)流量波動工況下維持電阻率穩(wěn)定輸出，流體通道經(jīng)過優(yōu)化，壓力損失控制優(yōu)異，不會加重前端超純水輸送系統(tǒng)負荷。

整機內(nèi)部無復雜運動零部件，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定可靠，故障率低，日常運維工作量少。運行僅需外接高純二氧化碳氣源，無需持續(xù)投加化學品，杜絕水質(zhì)二次污染。原廠 SEPAREL 二氧化碳溶解模組使用壽命長久，提供長期質(zhì)保，有效降低產(chǎn)線長期運營成本。

廣泛應(yīng)用于 8 英寸晶圓單片清洗、光刻掩模版清洗、實驗室基板清洗、晶圓切割后噴淋清洗、小型顯示基板濕法擦洗等小流量工藝場景。對于不方便集成面板式裝置的改造產(chǎn)線、研發(fā)實驗清洗設(shè)備，優(yōu)先選用 eFLOW 1AC-P201，解決純水靜電帶來的顆粒吸附、元器件靜電損傷問題。

【產(chǎn)品核心參數(shù)】產(chǎn)品型號：eFLOW 1AC-P201處理流量：1～16L/min電阻率調(diào)控范圍：0.1～15MΩ?cm內(nèi)置模組：PF-001L-NA ×1 組安裝方式：獨立一體化機柜式液體接口：Rc3/4CO?氣體接口：Rc1/4適用水溫：20～30℃工作水壓：0.1～0.3MPaCO?供氣壓力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原廠 SEPAREL 中空纖維氣液透過模組