eFLOW 2AC-P201 屬于 DIC 迪愛生 eFLOW C 系列獨立柜式超純水防靜電裝置，依托迪愛生自研 SEPAREL 中空纖維透氣膜技術打造，面向中流量半導體濕法清洗工藝開發(fā)，適配 5～30L/min 流量工況，多用于產線改造項目、獨立大型清洗設備、多條清洗支路共用供水場景。型號編碼中 2 代表雙模組配置，AC 代表一體化獨立機柜結構，P201 為標準化潔凈管路配置規(guī)格。與 2AP-B01 面板嵌入式機型流量規(guī)格一致，二者核心差異為安裝形態(tài)，2AC-P201 整機集成控制系統(tǒng)、傳感單元與管路框架，無需嵌入設備機柜，落地即可接入管路運行。

18.2MΩ?cm 超純水絕緣性能，水流高速沖擊晶圓、掩膜板、光學基板以及 PFA 管路內壁過程中極易持續(xù)積聚靜電。靜電會引發(fā)兩類典型生產不良：靜電吸附環(huán)境微粒子，造成基板表面顆粒污染；瞬時靜電放電擊穿芯片微細線路、光刻圖案，造成元器件性損壞。傳統(tǒng)防靜電方式多依靠添加化學藥劑，極易造成超純水二次污染，電阻率控制穩(wěn)定性差、維護頻次高。eFLOW 系列采用純物理氣液交換工藝，全程不添加任何化學試劑，從流體源頭抑制靜電產生，滿足半導體無塵車間嚴苛的高潔凈規(guī)范。

設備內置 2 組 PF-001L-ND2 原廠 CO?溶解模組，依靠中空纖維膜實現(xiàn)氣液滲透交換。超純水通入中空纖維內腔，高純二氧化碳由膜外側透過膜壁溶解進入水體，二氧化碳電離產生微量導電離子，生成碳酸飽和純水。設備通過內部精密分配管路系統(tǒng)，動態(tài)調節(jié)碳酸飽和純水與主管道超純水混合比例，持續(xù)穩(wěn)定調控出水電阻率，調節(jié)區(qū)間覆蓋 0.1～15MΩ?cm。整套氣液交換流程在密閉潔凈模組內部完成，不會引入雜質污染水體；同時可同步脫除水中溶解氣體，減少清洗過程氣泡殘留，改善基板水印、針孔、表面斑點等清洗缺陷。

eFLOW 2AC-P201 標準處理流量區(qū)間 5～30L/min，承接 1AC-P201 小流量機型上限，匹配中型單片清洗設備、連續(xù)噴淋清洗設備工況。整機為獨立落地一體化機柜結構，自帶底座調節(jié)腳，無需占用清洗設備內部安裝空間，針對老舊產線改造、設備內部無預留安裝空間的項目具備突出優(yōu)勢。設備全部接液零部件選用高純潔凈耐腐蝕材質，適配半導體無塵車間生產環(huán)境；雙模組并行運行結構，進水流量波動工況下依舊維持電阻率穩(wěn)定輸出，流體通道經過優(yōu)化，壓力損失控制優(yōu)異，不會加重前端超純水輸送系統(tǒng)負荷。

整機內部無復雜運動構件，結構穩(wěn)定可靠，故障發(fā)生率低，日常運維工作量少。運行僅需外接高純二氧化碳氣源，無需持續(xù)投加化學品，杜絕水質二次污染。原廠 SEPAREL 二氧化碳溶解模組使用壽命長久，提供長期質保，有效降低產線長期運營成本。

廣泛應用于 8/12 英寸晶圓濕法清洗、光刻掩模版清洗、晶圓切割后噴淋清洗、顯示面板濕法擦洗、光伏電池片連續(xù)清洗等中流量工藝場景。當產線不方便改造設備機柜、多條清洗腔體集中供水、新項目布局獨立流體單元時，優(yōu)先選用 eFLOW 2AC-P201，解決純水靜電帶來的顆粒吸附、元器件靜電損傷問題。

【產品核心參數(shù)】產品型號：eFLOW 2AC-P201處理流量：5～30L/min電阻率調控范圍：0.1～15MΩ?cm內置模組：PF-001L-ND2 ×2 組安裝方式：獨立一體化落地機柜式液體接口：Rc1"CO?氣體接口：Rc1/4適用水溫：20～30℃（允許區(qū)間 10～40℃，禁止結冰）工作水壓：0.1～0.3MPa，瞬時耐壓 0.5MPaCO?供氣壓力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原廠 SEPAREL 中空纖維氣液透過模組