Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 3181
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PlasmaPro 100 Estrelas深硅刻蝕設(shè)備
PlasmaPro100Estrelas深硅刻蝕設(shè)備旨在提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的PlasmaPro 100 Polaris ICP等離子刻蝕設(shè)備
PlasmaPro100PolarisICP等離子刻蝕設(shè)備為得到更為優(yōu)秀的刻蝕效果提PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備
PlasmaPro800RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式PlasmaPro 80 RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備
PlasmaPro80RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便PlasmaPro 100 RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備
PlasmaPro100RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備可為多種材料提供各向異性干法刻