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PfeifferVacuum-專注真空技術解決方案的供應商之一。不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵,同時還擁有各種旋片泵，干泵，羅茨泵，氦氣質譜檢漏儀，真空規，四級質譜儀等產品以及真空管件和綜合真空系統。從普發1958年發明渦輪分子泵至今,在全球分析、研發、鍍膜、太陽能、半導體和其他工業領域，始終代表著創新的解決方案、高品質、穩定可靠的產品和專業的服務。
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世華尖鋒渦輪分子泵產品參數
| 產地類別 | 進口 | 產品類型 | 無油泵 |
| 價格區間 | 10萬-20萬 | 儀器種類 | 分子泵 |
| 應用領域 | 能源,航空航天,制藥/生物制藥,綜合 |
世華尖鋒渦輪分子泵詳細信息
堅固耐用
同類產品中較好的混合軸承技術，大限度地延長正常運行時間，鍍鎳表面，適用于腐蝕性應用工藝
靈活
廣泛的產品組合，標準配件和通信工具
性能優秀
高抽速，對輕質氣體具有出色的壓縮比抽速
技術規格
技術參數 | HiPace 1200，搭配 TC 1200 | HiPace 1500，搭配 TC 1200 |
氫氣抽速 | 1100 l/s | 1150 l/s |
氦氣抽速 | 1300 l/s | 1350 l/s |
氬氣抽速 | 1200 l/s | 1350 l/s |
氮氣抽速 | 1250 l/s | 1400 l/s |
氫氣壓縮比 | 6 · 103 | 6 · 103 |
氦氣壓縮比 | 6 · 10? | 6 · 10? |
氬氣壓縮比 | 1 · 10? | 1 · 10? |
氮氣壓縮比 | 1 · 10? | 1 · 10? |
最終轉速下的氫氣氣體流量 | 30 hPa l/s | 30 hPa l/s |
最終轉速下的氦氣氣體流量 | 30 hPa l/s | 30 hPa l/s |
最終轉速下的氬氣氣體流量 | 11 hPa l/s | 11 hPa l/s |
最終轉速下的氮氣氣體流量 | 20 hPa l/s | 20 hPa l/s |
0.1 hPa HV 壓力下氫氣的氣體流量 | 8 hPa l/s | 8 hPa l/s |
0.1 hPa HV 壓力下氦氣的氣體流量 | 15 hPa l/s | 15 hPa l/s |
0.1 hPa HV 壓力下氮氣的氣體流量 | 26 hPa l/s | 26 hPa l/s |
適用于氮氣的前級真空 | 2 hPa | 2 hPa |
啟動時間 | 2.5 最小 | 2.5 最小 |
可選通信接口 | Profibus、Profinet、Ethercat、Devicenet、Semi E74 | Profibus、Profinet、Ethercat、Devicenet、Semi E74 |
標準通信接口 | RS-485，遠程 | RS-485，遠程 |
安裝方向 | 0°（高真空法蘭頂部）– 90° / 90° – 180°（高真空法蘭底部） | 0°（高真空法蘭頂部）– 90° / 90° – 180°（高真空法蘭底部） |
聲壓級（EN ISO 2151） | 50 dBA | 50 dBA |
重量（約） | 30.5 kg | 31.2 kg |
進氣口 | DN 200 ISO-K/ISO-F/CF-F | DN 250 ISO-K/ISO-F/CF-F |
排氣口 | DN 40 ISO-KF | DN 40 ISO-KF |
市場和應用
分析及實驗室
等離子體物理
高能物理
太空探索
超高真空
車輛及運輸
熱處理
太空探索
電子束焊
醫院和醫療設施
醫用加速器
診斷成像
冶金
電子束焊
真空銅焊 / 釬焊
熱處理
半導體應用
PVD
檢驗與計量
金屬和高 K 蝕刻
LPCVD / 擴散
光刻技術
氧化物蝕刻
剝離 / 灰化
ALD
PECVD
Si Poly etch
Load lock 和 傳輸
輕沉積
離子注入
薄膜鍍層
光學涂層
裝飾涂層
實驗室涂層
耐磨損涂層
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移動站：世華尖鋒渦輪分子泵
內容聲明：
您訪問的世華尖鋒渦輪分子泵產品信息，由美羅儀器（天津）有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于世華尖鋒渦輪分子泵型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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