桌面式高性能原子層沉積系統 參考價：面議
●桌面式高性能原子層沉積系統小型化設計，占地極小，靈活適配各類實驗環境●原子級薄膜生長與埃米級厚度精確控制●優異保形沉積能力，適用于復雜結構及粉體表面改性●支持...
Atolyze™-MINI 原子層沉積系統 參考價：面議
桌式原子層沉積系統，Atolyze™-MINI 原子層沉積系統，可實現與機器人聯動，支持樣品自動裝卸、跨設備傳輸，實現72小時無人化運行。
Nexalayer™-8'' 原子層沉積系統 參考價：面議
原子層沉積設備，Nexalayer™-8'' 原子層沉積系統，可與超高真空（UHV）系統（如 XPS, STM）直接互聯，實現樣品原位分析與制備。
Nexalayer™-6'' 原子層沉積系統 參考價：面議
原子層沉積系統，Nexalayer™-6'' 原子層沉積系統，可與超高真空（UHV）系統（如 XPS, STM）直接互聯，實現樣品原位分析與制備。
Nexalayer™-4'' 原子層沉積系統 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積，Nexalayer?-4'' 原子層沉積系統，可與超高真空（UHV）系統（如 XPS, STM）直接互聯，實現樣品原位分析與制備。
Atolyze™-MEDI 原子層沉積系統 參考價：面議
粉末原子層沉積系統ALD系統,Atolyze™-MEDI 原子層沉積系統，可實現與機器人聯動，支持樣品自動裝卸、跨設備傳輸，實現72小時無人化運行。
PVD多腔室互聯系統 參考價：面議
Korvus PVD多腔室互聯系統：磁控濺射、電子束、熱阻蒸發以及手套箱集成。憑借高度模塊化設計滿足制造商和研究人員在薄膜沉積應用中對定制化與靈活性的核心需求。
PVD薄膜沉積系統 參考價：面議
Korvus Technology的HEX系列薄膜沉積系統提供了多樣的沉積源選項，包括磁控濺射、電子束蒸發、有機蒸發薄膜沉積和熱阻蒸發等，可適用于您的各類研究和...
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