PVD薄膜沉積系統主要特點

   ● 適用于各種科研和應用

   ● 靈活且多功能

   ● 可隨時重新配置和升級腔室

   ● 可兼容磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發和有機材料蒸發等沉積源

   ● 可連接手套箱

   ● 設備可放置在實驗室臺面或者可移動框架上，節省實驗室空間，也可快速輕松地移動

   ● 易于清潔、維護成本低

PVD薄膜沉積系統詳細介紹

Korvus HEX系列薄膜沉積系統提供了多樣的沉積源選項，包括磁控濺射、電子束蒸發、有機蒸發薄膜沉積和熱阻蒸發等，可適用于您的各類研究和應用。您可以先購買基本型號，并根據需要升級到更高級別的組件以滿足您的需求。這些升級是模塊化的，安裝簡便，可減少系統停機時間和安裝成本。

HEX系列包括臺式HEX以及更大的HEX-L和HEX-XL系統。所有系統均配備渦輪分子泵，可實現在10-6到10-7 mbar范圍內的真空。臺式HEX支持高達100 mm 的樣品尺寸，同時配備可同時容納多個較小樣品的多樣品支架。該系統包含許多升級選項，包括300 l/s泵，可在較短時間內實現基準真空壓力。

用戶還可以選擇更大的HEX-L或HEX-XL室，可容納高達150 mm 和300 mm 的樣品尺寸，或者多個較小樣品。其他選項也可根據您的應用要求配置。

HEX系列為各種沉積方式提供了便利。這些沉積源可以根據***終用戶的自由選擇進行混合和匹配，并可以在HEX、HEX-L和HEX-XL型號之間進行切換。設計堅固、易于維護的Korvus沉積源是HEX系列PVD系統的理想配套產品。

這些濺射源設計用于直徑為2英寸、3英寸和4英寸的靶材，配備了SmCo磁鐵，并接受厚度在0.5至6 mm 的非磁性材料靶材，以及可匹配厚度為1 mm 的磁性材料靶材。

我們的高精度（亞單層）迷你電子束蒸發器非常適合具有可靠工藝控制的超薄膜沉積。可以使用棒狀材料直接蒸發或將材料放置在坩堝中蒸發。

ORCA有機沉積源設計為在50到600℃之間運行，以便以精確控制蒸發敏感有機材料。

TES熱蒸發源允許快速移除源以便補充蒸發材料。熱舟和燈絲也可以輕松迅速地更換。TES源可作為每個法蘭單一來源提供。也可選擇安裝熱電偶來監測熱舟溫度。每個源可以配備手動或自動快門。多個蒸發源可以在一個系統中容納。這些源也可以與其他技術一起使用，如濺射、電子束沉積和低溫源。

規格參數