目錄:中科艾科米（北京）科技有限公司>>原子層沉積系統>> 桌面式高性能原子層沉積系統
| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 綜合 |
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ALD 系統性能測試數據 / ALD TEST DATA
桌面式高性能原子層沉積系統技術參數 / TECHNICAL DATA
腔體材質 | 316SS | |
工作溫度 | RT~350℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
| 基板尺寸 | 最大單片4''樣品（可定制6''樣品） | |
2個低溫前驅體氣路(RT~150℃) | TMA，H2O etc | |
2個高溫前驅體氣路(RT~150℃) | Hf(NMe2 )4 ，Zr(NMe2 )4 etc | |
前驅體控溫精度 | ±1℃ | |
氣體流量控制 | 最高3路氣體流量控制，流量范圍0~500sccm | |
載氣 | N2，Ar | |
反應氣 | O2/O3，H2 | |
樣品非均勻性 | ≤1%@氧化鋁，平均5點，邊緣去除5mm | |
軟件控制 | 圖形化設計控制，PID自動控溫，高度定制的工藝程序，30天操作記錄 | |
選配項 | QCM原位監測模塊、臭氧發生器、手套箱 | |
●小型化設計，占地極小，靈活適配各類實驗環境
●原子級薄膜生長與埃米級厚度精確控制
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