PVD磁控濺射鍍膜設備產品介紹
1、本設備是一款高性能PVD磁控濺射鍍膜機,專為滿足從科研中試到工業化量產的多場景需求而設計。它具備高真空濺射環境、多濺射源配置以及濺射距離精準可調的結構特性,確保鍍膜過程的穩定與靈活。
2、電源系統方面,設備兼容直流、脈沖直流、射頻電源,并支持HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源,可適應不同材料與工藝要求。
3、樣品處理能力突出,支持批量樣品濺鍍,并可選配LOAD LOCK全自動送樣系統。樣品臺可實現加熱與低溫冷卻,滿足不同沉積溫度需求。
4、在薄膜性能上,設備能夠制備高質量的薄膜,具備優異的膜厚均勻性與重復性,鍍膜速率和膜厚可實現高精度控制,同時保證很強的薄膜附著力。
5、此外,用戶可選配離子束清洗或離子束輔助沉積功能,進一步提升膜層質量。控制系統采用PLC+PC全自動智能控制,操作簡便、工藝穩定。
6、材料與工藝適配廣泛,可沉積金屬、半導體、介質材料,支持多層薄膜濺射、共濺合金薄膜,并能夠實現反應濺射工藝。
7、該設備既適用于科研中試階段的工藝開發,也可直接用于工業化量產,是一款兼具靈活性與生產能力的PVD鍍膜解決方案。
