Dry(無油):全程無油,潔凈真空,無污染
Medium?Duty(中負荷):蝕刻、CVD、灰化、離子注入、外延等主流半導體工藝
Energy Saving(節能):比上代 EV?M/EV?S 省電 25–50%
Compact(占地小):比同類泵占地減少約 30–38%
多級螺桿 / 羅茨復合轉子:荏原自研高效轉子,大流量 + 高真空兼顧
模塊化泵體:整機高度集成,零件少、易維護、交期短
全機無油設計:非接觸密封,無油污染、壽命長、維護周期長
多級干式轉子逐級壓縮排氣,從真空側到大氣側
全程無油,只靠轉子嚙合輸送氣體
寬溫智能控溫:防止副產物(如 SiO?、TiN)沉積,可處理高粉塵 / 高副產物工藝
比上代 EV?M 系列 省電 25–50%
IE5 超高效電機,低負載時自動降功率
同流量下體積*小,Sub?Fab 空間利用率高
比競品占地減少 30–38%
覆蓋:蝕刻、CVD、PECVD、HDP CVD、灰化、離子注入、外延、PVD、濺射
低流量 → 大流量、低腐蝕 → 強腐蝕全搞定,減少備用機庫存
標準材質即耐腐蝕(氟化物、氯化物、硅系副產物)
HC 版本可應對強腐蝕、高粉塵苛刻工藝
無需冷卻水,無水路故障,全球通用、安裝靈活
50/60Hz 自適應,全球電網通用
省電 + 長維護周期 + 少備件 + 少備用機 → 長期成本大幅下降
泵體寬范圍精準控溫,抑制副產物堆積
PN 氮氣吹掃進一步防堵,適合 TiN、3D NAND 深穴等易沉積工藝
符合 SEMI?S2、CE、NRTL,半導體工廠**標準全覆蓋
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