王洋
當前位置:日崎國際貿易(成都)有限公司>>大塚電子 / Otsuka>>晶圓計>> SF-3日崎 大塚電子Otsuka晶圓計
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環保,化工,生物產業,制藥/生物制藥,綜合 |
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日崎 大塚電子Otsuka晶圓計
日崎 大塚電子Otsuka晶圓計
在現代半導體及先進封裝工藝中,晶圓的減薄與化學機械拋光(CMP)環節十分關鍵。若硅片的厚度去除量控制不當,將直接引發芯片過熱或電路斷層。如果使用接觸式的測厚卡尺,探頭極易在脆弱的晶圓表面留下不可修復的劃痕;而測量響應過慢的儀器,又無法適應自動化機臺的高頻加工節拍。
【非接觸測量與優良精度把控】SF-3 分光干涉式厚度計有效克服了物理接觸的弊端。系統投射特定的測量光束至晶圓表面與底面,通過捕捉兩股反射光產生的干涉圖譜來推算介質的絕對厚度。整個測量過程處于非接觸狀態,保障了晶圓的物理與潔凈度安全。搭配內部的高規格處理芯片,儀器能在極短的周期內輸出數據,確保在高速拋光工藝中能夠做到實時的厚度把控與停機預警。
【多材質適應與晶圓映射輔助】該設備不僅適用于常規的純硅晶圓測算,面對封裝制程中常見的透明樹脂涂布或特殊聚合物覆層,也能通過折射率設置給出可靠的膜厚評估。系統支持與晶圓傳輸機構及上位機軟件通訊聯動,可自動形成整個晶圓表面的微觀厚度地形映射(Mapping),幫助工藝工程師直觀分析研磨機的中心與邊緣偏差,是提升制程一致性的良好工具。
【主要技術規格參考表】
類別 / 規格 | 核心技術指標說明 |
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核心測量原理 | 分光干涉方式,支持晶圓本體及附著樹脂層測定 |
應用工藝節點 | 半導體晶圓研削(Grinding)與研磨拋光(Polishing)工序 |
測量交互方式 | 全光學非接觸式、非破壞性讀取 |
數據采集特點 | 具備高頻率及高重現度,契合半導體機臺運作節拍 |
拓展功能支持 | 支持晶圓面內厚度自動化映射功能 (Mapping) |
設備穩定定位 | 為無塵室工藝環境提供穩定的尺寸監控支持 |
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