eFLOW 3AC-P201 隸屬于 DIC 迪愛生 eFLOW C 系列獨立柜式超純水防靜電裝置，依托迪愛生自研 SEPAREL 中空纖維透氣膜核心技術打造，面向大流量半導體濕法清洗產線開發，適配 10～50L/min 流體工況，適合連續式大型清洗設備、多條清洗腔體集中供水、老舊產線升級改造項目。型號編碼中 3 代表大流量機型配置等級，AC 代表一體化獨立落地機柜結構，P201 為標準化潔凈管路配置規格。該機型流體處理能力與 3AP-B01 面板嵌入式機型保持一致，二者核心差異為安裝形態；3AC-P201 整機集成電阻率傳感單元、控制管路、氣體安置空間，無需嵌入清洗設備機柜，就位對接管路即可投入運行。

18.2MΩ?cm 超純水具備絕緣特性，水流高速沖刷晶圓、掩膜板、光學玻璃基板、PFA 管路內壁時極易持續積聚靜電。靜電會引發兩類重大生產不良：靜電吸附環境內微粒子，造成基板表面顆粒污染缺陷；瞬時靜電放電擊穿芯片微細線路、光刻圖形，導致元器件性損毀。傳統防靜電方案大多依靠添加化學藥劑，容易造成超純水二次污染，電阻率控制波動大，設備維護頻次高。eFLOW 系列采用純物理氣液交換工藝，全程不添加任何化學試劑，從流體源頭穩定抑制靜電生成，半導體無塵車間嚴苛高潔凈管控標準。

設備內置 2 組 PF-001L-ND3 原廠 CO?溶解模組，依靠中空纖維膜實現氣液滲透交換。超純水通入中空纖維內腔，高純二氧化碳由膜外側透過膜壁溶解進入水體，二氧化碳電離產生微量導電離子，生成碳酸飽和純水。設備依靠內部精密分配管路系統，動態調節碳酸飽和純水與主管道超純水混合比例，持續穩定調控出水電阻率，調節區間覆蓋 0.1～15MΩ?cm。整套氣液交換流程在密閉潔凈模組內部完成，不會引入雜質污染水體；同時可同步脫除水中溶解氣體，減少清洗工序氣泡殘留，有效改善基板水印、針孔、表面斑點等清洗瑕疵。

eFLOW 3AC-P201 標準處理流量區間 10～50L/min，覆蓋大流量連續噴淋、多腔體并行清洗工況，承接 2AC-P201 機型流量上限。整機為獨立落地一體化機柜結構，機柜內部預留兩瓶 CO?鋼瓶安置區域，自帶水平調節底座，無需占用清洗設備內部安裝空間，針對設備機柜無預留安裝位置、無塵車間產線改造、多條支路集中供水場景優勢突出。設備全部接液零部件選用高純潔凈耐腐蝕材質，適配半導體無塵車間生產環境；雙模組并行運行結構，進水流量大幅波動工況下依舊維持電阻率穩定輸出，流體通道經過優化設計，壓力損失控制優異，不會加重前端超純水輸送系統負荷。

整機內部無復雜運動構件，結構穩定可靠，故障發生率低，日常運維工作量少。運行僅需外接高純二氧化碳氣源，無需持續投加化學品，杜絕水質二次污染。原廠 SEPAREL 二氧化碳溶解模組提供 5 年質保，使用壽命長久，有效降低產線長期運營成本。

廣泛應用于 8/12 英寸晶圓批量濕法清洗、光刻掩模版清洗、晶圓切割后噴淋清洗、大尺寸顯示面板濕法擦洗、光伏電池片連續清洗等大流量工藝場景。產線不方便改造設備機柜、多條清洗腔體集中供水、新項目規劃獨立流體處理單元時，優先選用 eFLOW 3AC-P201，解決純水靜電帶來的顆粒吸附、元器件靜電損傷問題。

【產品核心參數】產品型號：eFLOW 3AC-P201處理流量：10～50L/min電阻率調控范圍：0.1～15MΩ?cm內置模組：PF-001L-ND3 ×2 組安裝方式：獨立一體化落地機柜式液體接口：Rc1"CO?氣體接口：Rc1/4適用水溫：20～30℃（允許區間 10～40℃，禁止結冰）工作水壓：0.1～0.3MPa，瞬時耐壓 0.5MPaCO?供氣壓力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原廠 SEPAREL 中空纖維氣液透過模組