EBARA 荏原 EV?M 系列重載耐腐多級羅茨干式真空泵全新入庫，整機日本生產，現貨庫存充足，能夠快速響應半導體產線各類項目訂單，解決進口設備訂貨周期漫長造成的產線排期受阻問題，面向高副產物、強腐蝕半導體重負載工藝打造的主力真空設備。

EV?M 系列專為嚴苛重負載制程研發，采用全無油多級羅茨結構，泵腔不使用潤滑油，標配水冷散熱以及泵體分區伴熱溫控系統，依靠高溫控溫技術抑制工藝副產物冷凝堆積，適配含有鹵素、硅化物、金屬有機源等腐蝕性氣體工況。區別于風冷機型，水冷結構保障設備在連續高負荷排氣條件下穩定運行，從源頭杜絕油霧返流污染工藝腔體，滿足半導體量產產線對真空潔凈度的硬性標準。

內部轉子采用非接觸式運轉設計，運動部件無直接摩擦，能夠耐受大量粉塵類工藝副產物，大幅降低泵腔卡滯風險。對比傳統干泵，在處理強腐蝕介質工況下維護周期更長，減少產線非計劃停機頻次。系列覆蓋多段抽速規格，從小型腔體到大流量量產產線均有對應機型，整機柜體化設計，落地擺放即可投入使用，適配工廠設備間標準化布局。

設備搭載智能轉速控制系統，支持怠速節能模式，低負載工況自動調節轉速，有效降低整體能耗。50Hz 與 60Hz 工況下可保持一致抽氣性能，適配國內半導體工廠供電條件。配備觸摸屏操作面板，可實時查看溫度、壓力、運行負載等狀態信息，具備過載保護、超溫報警、故障歷史記錄、遠程信號輸出功能，可對接工廠 MES 系統實現產線集中監控。機型標準配置耐腐蝕材質，還可選配特氟龍強化防腐版本，進一步提升耐化學腐蝕能力，符合 SEMI?S2、CE 工業安全相關標準。

廣泛應用于半導體干法刻蝕、LPCVD、PECVD、HDP?CVD、ALD、MOCVD、第三代半導體外延工藝，同時適配面板、光伏電池制造產線，也可用于大型科研真空反應腔體，可直接替換老舊重載干式真空泵，提升產線運行穩定性，降低設備整體使用成本。

本次到貨全部為日本原裝全新整機，整機性能一致性穩定，現貨可支持樣機驗證、產線設備配套、批量項目采購，縮短客戶項目等待周期。

1、日本原裝整機進口，專為半導體重腐蝕高負載工藝設計2、現貨庫存直發，縮短進口設備交付周期3、全無油多級羅茨結構，伴熱溫控抑制副產物堆積4、水冷散熱方案，適配 7×24 小時連續量產運行5、智能變頻節能，標配防腐材質，可選強化防腐配置6、完備狀態監控與報警輸出，適配工廠自動化系統對接