當前位置:池田屋貿易(深圳)有限公司>>ULVAC 愛發科>> CRTM-R1到貨全新ULVAC愛發科振膜厚速率控制器
| 供貨周期 | 一個月 | 規格 | 看參數 |
|---|---|---|---|
| 貨號 | 1302s79s23z555 | 應用領域 | 綜合 |
| 主要用途 | 半導體 |
到貨全新ULVAC愛發科振膜厚速率控制器
到貨全新ULVAC愛發科振膜厚速率控制器
CRTM-R1 是日本 ULVAC 新一代阻抗檢測式石英晶振膜厚速率控制器,依托阻抗同步測量算法,解決傳統單測頻率帶來的速率跳變、溫漂干擾問題,精準管控蒸鍍、磁控濺射薄膜厚度與沉積速率,適配光學、半導體、OLED、鈣鈦礦光伏等高精密真空鍍膜產線。
核心規格參數抽吸流量:<0.03 SLM,遠低于 BS9(3SLM),微量氦氣不易被空氣稀釋,微漏信號辨識度拉滿檢測量程:0.01×10?? ~ 1×10?? Pa?m3/s,可捕捉 10??量級超微泄漏結構配置細長金屬探針,可伸入法蘭夾縫、微型閥體、狹小腔體縫隙標準軟管 2m/5m/10m,支持 1m 單位加長定制,遠距離手持操作無拖拽阻力獨立控制主機通訊直連檢漏儀,一鍵真空 / 嗅探模式自動切換,無需手動改參數配套校驗:搭配 CLM 標準漏孔可完成嗅探通道整機校對,出廠精度標定,檢測偏差穩定控制在 ±10% 內
特色
采用新的測量方法大大提升了速率穩定性。
能力(CI值)測量提升了晶體板的異常檢測能力。
憑借出色的膠片厚度和速率分辨率(0.0018? @5MHz),也非常適合低速率沉積控制。
最多可同時控制8個沉積。 (添加選項時)
通信方式支持以太網和RS-232C。
主機上存儲的各種日志數據可以以CSV格式傳輸到USB。
金屬和光學薄膜沉積過程中的薄膜厚度和速率控制
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