一、系統用途

二、三類主流處理機型

1. 高溫燃燒型（適配含 PFC 溫室氣體廢氣）

1. G5 系列

   通用燃燒減排設備，可處理多種混合工藝氣體，全氟氣體分解效率超 99%。自帶粉塵自動清理結構，燃料消耗可調節，降低運行能耗。最大處理流量 1200L/min，用于刻蝕、CVD、LED 常規生產線，具備行業安全認證。

2. G6-E 系列

   半導體外延工藝專用機型，適配 MOCVD、碳化硅、氮化鎵第三代半導體產線，可大流量處理高濃度氫氣、氯氣尾氣。

3. TND 系列

   低氮氧化物、低一氧化碳環保燃燒機型，優化燃燒室結構，減少污染物二次生成。針對高粉塵廢氣做防腐防堵改造，維護周期更長。高配型號增設前置水洗，處理雜質含量高的廢氣穩定性更好。

2. 濕式洗滌 G-WS 系列（水溶性酸性廢氣專用）

3. 干式分解 FDS 系列（無廢水產線、實驗室）

三、可處理廢氣種類

1. 溫室氣體：四氟化碳、六氟乙烷、六氟化硫、三氟化氮等全氟類化合物；

2. 酸性腐蝕氣體：氯化氫、氯氣、六氟化鎢、四氟化硅；

3. 易燃易爆氣體：氫氣、硅烷等工藝可燃尾氣。

四、設備通用優勢

1. 安全防護：配備高溫、壓力、燃氣多重聯鎖保護，異常工況自動停機報警；

2. 占地緊湊：立式機柜結構，豎向布局節省地面空間；

3. 運維簡便：易損耗配件集中布置在設備正面，單人即可完成更換、清潔；

4. 防腐耐用：接觸廢氣的腔體、管路采用耐氟、耐酸特種材質，長期使用不易腐蝕滲漏。