nano PVD-T15A物理氣相沉積系統是一種臺式蒸發系統，優化用于沉積各種高熔點金屬和揮發性有機物。體積緊湊如電子顯微鏡涂層機，但配備優良硬件以實現研究級效果。                                                            

nano PVD-T15A物理氣相沉積系統優化用于熱蒸發到直徑達4英寸的基材上。它可以配備標準的電阻蒸發源和/或低溫蒸發（LTE）源，分別用于沉積金屬和有機物。

LTE源具有低熱質量，便于更好地控制揮發性有機物蒸發，而金屬源則采用我們的盒狀屏蔽TE1模型，實現高效沉積和減少交叉污染。

艙室通過一個帶鉸鏈的蓋子進入，打開后露出適合容納直徑不超過4英寸基底的舞臺。腔體較高，便于通過蒸發技術實現高均勻性涂層。

這些設備通過觸摸屏HMI界面易于控制，維護簡便，運行成本低，并配備全面的安全配置。                                                

憑借渦輪分子泵系統、高真空基壓、通過觸摸屏HMI實現的簡單自動控制以及多種靈活配置選項，nanoPVD-T15A是一款多功能高效的研發解決方案。