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NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統 參考價：面議
單靶 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統為多種薄膜沉積應用提供了最大靈活性。NEXUS PVD支持200毫米，具備先進的工藝能力、出色的均勻性和多種沉積模式...
Fiji ALD原子層沉積系統 參考價：面議
Fiji ALD原子層沉積系統是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統，采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置，可適應各種沉積模式。Fiji 是下一代 ALD...
Savannah ALD原子層沉積系統 參考價：面議
Savannah ALD原子層沉積系統已成為全球從事ALD研究、尋求經濟實惠且穩健平臺的大學研究人員優先的系統。過去十年中，我們已交付數百套此類系統。Savan...
Phoenix ALD原子層沉積系統 參考價：面議
Phoenix ALD原子層沉積系統設計旨在實現高通量和最大運行時間，適用于從試點生產到工業級制造的任何制造環境。Phoenix?支持多達六條獨立前驅體線，根據...
GEN2000 MBE分子束外延系統 參考價：面議
GEN2000 MBE分子束外延系統提供的吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產以及需...
GEN200 MBE分子束外延系統 參考價：面議
GEN200 MBE分子束外延系統是當市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產 MBE 系統。該系統在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等設備的生長中提...
GEN20 MBE分子束外延系統 參考價：面議
GEN20 MBE分子束外延系統是一款超靈活的工具，設計可針對III-V型及新興材料進行配置，包括需要電子束技術集成的應用。該系統集成了生產設計技術，支持可選的...
GENxcel R&D MBE分子束外延系統 參考價：面議
GENxcel R&D MBE分子束外延系統具備易于使用的手動傳輸系統、12個源端口和現代電子設備，集成于單一框架設計中，可實現大的實驗室占地面積效率。
GEN10 MBE分子束外延系統 參考價：面議
GEN10 MBE分子束外延系統是經過驗證的平臺中最靈活的集群工具系統，支持最多三個可配置的材料特定增長模塊。這使得系統利用率高，使多位研究人員能夠同時使用系統...
GENxplor R&D MBE分子束外延系統 參考價：面議
GENxplor R&D MBE分子束外延系統是一款面向化合物半導體研發市場的集成式分子束外延設備，以緊湊單框架設計和高工藝靈活性著稱，適用于多種前沿材料的原子...
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