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MA300 Gen3 掩模光刻機 參考價：面議
MA300 Gen3 掩模光刻機是 SUSS 用于 200 mm 和 300 mm 晶圓的旗艦掩模對準機。它專為先進封裝而設計，將亞微米對準與靈活的頂部、底部和...
MA200 Gen3 掩模光刻機 參考價：面議
MA200 Gen3 掩模光刻機專用于200 毫米以下晶圓和方形基板的大批量自動化生產。它將創新對準技術與智能自動化相結合，是微機電系統 (MEMS)、射頻 (...
MA12 Gen3 掩模光刻機 參考價：面議
MA12 Gen3 掩模光刻機是一款半自動化掩模對準機，適用于最大 300 毫米的晶圓，將成熟的光刻技術與先進的壓印處理技術相結合。它為 MEMS、先進封裝和研...
MA/BA Gen4 系列有掩模光刻機 參考價：面議
MA/BA Gen4 系列有掩模光刻機代表了標準或先進應用的半自動化掩模對準機和壓印處理的兩個平臺。該系統將久經考驗的 SUSS' 光刻技術與全新的自動化和人機...
MJB4有掩膜光刻機 參考價：面議
MJB4有掩膜光刻機通過 MO 曝光光學系統?、多種曝光模式和模塊化升級提供可靠的光刻技術。它具有亞微米分辨率和 UV-NIL 選項，為高級研發和試生產提供了靈...
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