DWL 66+激光直寫光刻系統 參考價：面議
DWL 66+激光直寫光刻系統是高性價比、高分辨率的圖形發生器，適用于小批量掩膜版制作和直寫需求。該設備具有多種選配模塊，如對準系統、不同波長的激光發生器以及自...
ULTRA 半導體有掩模直寫光刻系統 參考價：面議
ULTRA 半導體有掩模直寫光刻系統為微控制器、電源管理集成電路、發光二極管、物聯網設備、光電子學和微機電系統的光掩膜生產提供了功能出色、經濟高效的解決方案，可...
VPG+1400 FPD 有掩模光刻系統 參考價：面議
VPG+1400 FPD 有掩模光刻系統是全球光掩膜制造商用于大批量生產的體積圖案發生器，具有突破性的效率和優異的質量。它們是我們專為顯示器行業設計的最大系統，...
VPG+ 800 有掩模光刻系統 參考價：面議
VPG+ 800 有掩模光刻系統是為 i-line 光刻膠多用途掩膜制造而設計的多功能的光刻系統。這些系統擅長在從小型到大型的各種基板上創建高分辨率圖形，能夠處...
DWL 2000 GS 激光直寫光刻系統 參考價：面議
DWL 2000 GS 激光直寫光刻系統是高速且靈活的高分辨率圖案生成器。這些系統針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于對集成電路、MEMS、微光學和微流控器件...
MLA 300 無掩膜光刻系統 參考價：面議
MLA 300 無掩膜光刻系統專為大批量生產而設計，在工業光刻領域具有優異的靈活性和精確性。它支持最大 300 x 300 毫米的晶圓，能動態適應表面變化，無需...
NanoFrazor 納米制造光刻系統 參考價：面議
NanoFrazor 納米制造光刻系統是一款開創性的商業化熱掃描探針光刻（t-SPL）系統，旨在推動各類應用領域中的前沿研究與創新。無論是探索量子器件、一維/二...
VPG 300 DI 無掩模投影光刻系統 參考價：面議
VPG 300 DI 無掩模投影光刻系統是一款高性能直寫光刻系統，旨在將創新周期從數周縮短至數小時。VPG 300 DI 結合了傳統 i-line 步進器的精度...
MLA 150 無掩模光刻系統 參考價：面議
MLA 150 無掩模光刻系統采用快速、靈活、易于使用的解決方案取代了傳統技術，具有最高的性能。通過使用數字鏡像設備（DMD）作為動態掩模，MLA 150 克服...
µMLA 無掩模光刻系統 參考價：面議
μMLA 無掩模光刻系統是一款基于穩健的 μPG 平臺打造的先進桌面式無掩模光刻系統，它非常適合作為研發和快速原型制作的入門級工具，能夠在多種應用中實現高精度微...
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