PlasmaPro 80 ICPCVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。

• 直開式設(shè)計允許快速裝卸晶圓

• 出色的刻蝕控制和速率測定

• 出色的晶圓溫度均勻性

• 晶圓最大可達200mm

• 購置成本低

• 符合半導(dǎo)體行業(yè) S2 / S8標(biāo)準(zhǔn)

PlasmaPro 80 ICPCVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點：

• 小型系統(tǒng)——易于安置

• 優(yōu)化了的電極冷卻——襯底溫度控制

• 高導(dǎo)通的徑向（軸對稱）抽氣結(jié)構(gòu)—— 確保提升了工藝均勻性和速率

•  增加<500毫秒的數(shù)據(jù)記錄功能——可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄

•  近距離耦合渦輪泵——提供優(yōu)異的泵送速度加快氣體的流動速度

•  關(guān)鍵部件容易觸及——系統(tǒng)維護變得直接簡單

• X20控制系統(tǒng)——大幅提高了數(shù)據(jù)信息恢復(fù)功能， 同時可以實現(xiàn)更快更可重復(fù)的匹配

•  通過前端軟件進行設(shè)備故障診斷——故障診斷速度快

• 用干涉法進行激光終點監(jiān)測——在透明材料的反射面上測量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法來確定非透明材料 (如金屬) 的邊界

• 用發(fā)射光譜（OES）實現(xiàn)較大樣品或批量工藝的終點監(jiān)測—— 監(jiān)測刻蝕副產(chǎn)物或反應(yīng)氣體的消耗量的變化，以及用于腔室清洗的終點監(jiān)測